Gebraucht LAM RESEARCH DSS 200 #9390058 zu verkaufen

LAM RESEARCH DSS 200 ist ein fortschrittlicher Wafer- und Maskenwäscher, der zum Reinigen und Waschen jeder Halbleiterscheibe und Photomaskenoberfläche verwendet wird. Dieser Wäscher verwendet eine Vielzahl von Reinigungstechniken, um eine gründliche Reinigung zu gewährleisten und gleichzeitig Beschädigungen der empfindlichen Wafer- und Photomaskenschichten zu vermeiden. LAM RESEARCH ONTRAK DSS 200 arbeitet mit einer Kombination aus Ultrahochgeschwindigkeitswäsche und Er: YAG Laserreinigung. Beim Schrubben bewegt sich eine Reihe von Waschköpfen, die durch präzise motorisierte Armbaugruppen gesteuert werden, über die Oberfläche des Wafers und der Photomaske mit Nenngeschwindigkeiten von bis zu 18 m/s oder 60.000 Scheuerhüben pro Minute. Diese Waschwirkung wird durch die Verwendung von drei gegenläufigen Bürsten aus polymeren Borsten mit hohem Durometer erreicht. Jede Bürste ist individuell gesteuert und individuell auf Druck, Winkel und Geschwindigkeit programmiert, um sicherzustellen, dass die Oberfläche des Wafers oder der Fotomaske gleichmäßig gereinigt wird. Der Er: YAG Laser wird auch zur Reinigung von Wafer- und Photomaskenoberflächen verwendet. Der Laser kann kleine Partikel und Verunreinigungen entfernen, die sich während der Verarbeitung an der Oberfläche von Wafern und Photomasken befestigen können. Der Laser wird der Wafer- oder Photomaskenoberfläche durch einen fokussierten Lichtstrahl zugeführt, der von einem internen lichtgerichteten System genau gesteuert wird. Dadurch werden alle Partikel entfernt, die nach Abschluss des Waschvorgangs auf der Oberfläche verbleiben. DSS 200 kann verwendet werden, um eine Vielzahl von Halbleiterscheiben und Photomasken zu reinigen, einschließlich Low-k, SOI und Substratfilmen. Der Scrubber ist vollautomatisiert und seine Steuerungslogik kann auf die spezifischen Bedürfnisse des Benutzers zugeschnitten werden. Darüber hinaus verwendet der Scrubber alle branchenüblichen Verbindungsprotokolle, einschließlich serieller, Ethernet und SCSI. ONTRAK DSS 200 Wafer und Maske Scrubber ist ein fortschrittliches Werkzeug entwickelt, um die höchste Ebene der Wafer und Photomaske Reinigung zur Verfügung zu stellen. Die Kombination aus Schrubben und Laserreinigung ermöglicht es, selbst hartnäckigste Verunreinigungen zu entfernen und gleichzeitig Schäden an empfindlichen Geräteschichten zu vermeiden. LAM RESEARCH DSS 200 ist ein wesentliches Werkzeug für Halbleiterhersteller, die eine präzise und zuverlässige Reinigung ihrer Wafer- und Photomaskenoberflächen benötigen.