Gebraucht LAM RESEARCH / ONTRAK Series II #9412623 zu verkaufen

LAM RESEARCH/ONTRAK Series II Wafer and Mask Scrubber ist ein fortschrittliches, automatisiertes System zur Reinigung und Entkontaminierung großer Lithographiemasken und Wafer. Dieser Scrubber nutzt modernste Robotik und fortschrittliche Bilderkennungstechnologie, um verschiedene Masken- und Wafereigenschaften zu analysieren und zu verarbeiten, darunter: Oberflächentopographie, gemusterte Merkmale und strukturierte Merkmale. Der Prozess beginnt mit dem Scrubber Scannen von speziellen optischen Elementen auf dem Wafer oder der Maske, um Unvollkommenheiten zu erkennen. Einmal erkannt, verwendet das Gerät dann einen automatisierten „Bürstvorgang“, um einen Hochdruckstrom einer Reinigungslösung auf die Oberfläche des Wafers oder der Maske aufzubringen. Anschließend erkennt der Wäscher mit seiner Bilderkennungstechnologie eventuelle Restverunreinigungen und wiederholt den Reinigungsvorgang, bis ein kontaminationsfreies Ergebnis erzielt ist. ONTRAK Serie II Wafer und Maske Scrubber bietet überlegene Leistung im Vergleich zu anderen professionellen Scrubbern aufgrund seiner fortschrittlichen Roboter- und Bilderkennungstechnologien. Der Schrubber bietet auch Fachleuten Komfort, da er mit einem kleinen und tragbaren Formfaktor konzipiert ist, was den Transport und die Verwendung an verschiedenen Orten erleichtert. Der Scrubber ist mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, wodurch die Bedienung einfach zu verstehen und einzurichten ist. Darüber hinaus ist der Wäscher in der Lage, bis zu 8 anwenderprogrammierbare Reinigungsverfahren für verschiedene Lithographieverfahren zu speichern, sodass Anwender nahtlos zwischen verschiedenen Rezepturen wechseln können. Die erweiterten Netzwerkfunktionen des Geräts ermöglichen es Benutzern auch, den Betrieb an mehreren Standorten zu überwachen. LAM RESEARCH Series II Wafer and Mask Scrubber ist ein Must-Have-Tool für professionelle Lithografen und Halbleiterhersteller. Die robuste bildgebende Erkennung und der automatisierte Reinigungsprozess ermöglichen es dem Wäscher, Masken und Wafer mit minimalem Aufwand und Zeitaufwand effektiv zu reinigen und zu entkontaminieren. Darüber hinaus machen der geringe Formfaktor und die benutzerfreundliche Schnittstelle den Betrieb schnell und effizient, während die Netzwerkfunktionen und die gespeicherten Reinigungsprogramme es Benutzern ermöglichen, auf Vorgänge aus der Ferne zuzugreifen und sie zu verwalten. Wenn Sie nach einem fortschrittlichen und effektiven Wäscher für große Lithographie-Prozesse suchen, ist die Serie II Wafer und Maske Scrubber die perfekte Wahl.