Gebraucht LAM RESEARCH / ONTRAK Synergy #293587490 zu verkaufen

LAM RESEARCH/ONTRAK Synergy ist ein Wafer- und Maskenwäscher zur Partikelentfernung von der Oberfläche von Halbleiterscheiben und Photomasken, die zur Erstellung integrierter Schaltkreisumrisse verwendet werden. Die Ausrüstung integriert zwei bewährte Waschtechnologien, ONTRAK scrubber und LAM RESEARCH Robotic Wafer Scrubber, um eine beispiellose Scheuerleistung mit einer einzigen Plattform zu bieten. LAM RESEARCH/ONTRAK Scrubber verwendet eine Hochgeschwindigkeits-Spinnbürste, die perfekt ist, um hartnäckige Partikel und kleine Defekte auf der Oberfläche des Wafers oder der Photomaske zu entfernen. Die Bürste wird über eine rotierende Güllelösung angetrieben, die auf die Oberfläche gesprüht wird und mit den Trümmern abfließt. Die Partikel und Trümmer werden effizient verschlungen und mit der Aufschlämmung von der Oberfläche abgehoben. Diese Technologie ist am effektivsten, um kleinere Partikel und Rückstände zu entfernen, die mit trockenen Wafer- oder Maskenwäschesystemen schwer zu entfernen sind. ONTRAK Wafer Scrubber ist ein robotergesteuertes System, das eine kontrollierte, gleichmäßige Waschkraft und Bewegung bereitstellt. Diese Art von Einheit ist zur Entfernung von Verunreinigungen aus großen Plattenwäscheanwendungen notwendig und eignet sich auch ideal zum Batch-Waschen von Fertigungswafern. Es verwendet bürstenlose Motoren, die eine oszillatorische Bewegung der Bürsten für Wafer und Photomaske Vorderseite Schrubben erzeugen, gesteuert durch einen Roboter Schrubbarm. Die Bürstenbewegung ist so konzipiert, dass sie die Oberfläche in konsistenter und effizienter Weise effektiv durchzieht, was zu weniger Zeitaufwand beim Waschen und einer verbesserten Partikelabscheidung führt. Die Kombination dieser beiden Technologien in der ONTRAK Synergy Maschine ist effektiv, um die Oberflächen von Wafern und Photomasken mit minimaler Verschiebung von ihnen oder die Merkmale der Oberfläche zu waschen, während auch maximale Partikeloberflächenentfernung. Sie eignet sich besonders für Anwendungen, bei denen hohe Partikelzahlen, kritische Merkmale oder hohe Leitungsdichten eingehalten werden müssen. Dieses fortschrittliche Waschwerkzeug ist ideal für diejenigen, die in der Herstellung von Halbleiterscheiben und Photomasken arbeiten.