Gebraucht LAM RESEARCH / ONTRAK Synergy #293606441 zu verkaufen

LAM RESEARCH/ONTRAK Synergy ist ein Wafer- und Maskenwäscher, ein Gerät zur Verarbeitung empfindlicher Halbleiterscheiben. Es wurde speziell entwickelt und entwickelt, um die Oberfläche von Wafern und Masken für den Einsatz in Halbleiterherstellungsgeräten wie Lithographiesystemen zu reinigen. Der Wäscher wurde entwickelt, um Oberflächenverunreinigungen von Wafern und Masken zu entfernen und Partikel zu entfernen, die im Rahmen des Photolithographie-Prozesses zu Defekten und Verlust führen können. Der Wäscher besteht aus zwei Hauptkomponenten, dem Wäscher und der Wäscherkammer. Der Wäscher ist eine zerstörungsfreie Vorrichtung, während die Wäschekammer eine Reinigungskammer sowie eine Chlorierungskammer aufweist. Der Wäscher besteht aus zwei gegenläufigen Wäschescheiben, einem Satz von Schwingungsdämpfern und Abgasventilator zum Trocknen von Wafern und Masken, die bearbeitet werden. Die Scheuerscheiben sind so ausgelegt, dass sie Partikel von der Oberfläche der Wafer entfernen, während die Schwingungsdämpfer die Gefahr verringern, das empfindliche Material während des Scheuervorgangs zu zerkleinern oder zu knacken. Die Waschkammer besteht aus einer Hauptprozesskammer, einer Spülkammer und einer Maskenreinigungskammer. Die Hauptprozesskammer dient zur Reinigung und Polierung der Waferoberfläche und ist mit einer Auspuffanlage ausgestattet, die das Abwasser aus dem Waschvorgang evakuiert. Die Spülkammer ist für die Endreinigung und Spülung der Wafer ausgelegt, was eine zuverlässige und konsistente Reinigungsleistung ermöglicht. Schließlich wird die Maskenreinigungskammer verwendet, um Masken mit einem drucklosen Prozess zu reinigen, was bessere Reinigungsergebnisse mit weniger Risiko für Schäden an Masken bietet. Darüber hinaus verfügt der Wäscher über Merkmale, die eine einfache Sammlung und Wiederverwertung von während des Waschvorgangs anfallendem Abwasser ermöglichen. Es ist auch mit einem fortschrittlichen Vakuumsystem ausgestattet, das einen Powerhead-Filter verwendet, um Partikel von den Waferoberflächen vor dem Trocknen zu entfernen. Darüber hinaus ist der Wäscher so ausgelegt, dass er ohne Werkzeugwechsel arbeiten, den Durchsatz verbessern und Ausfallzeiten reduzieren kann. Der Wäscher kann eine breite Palette von Wafergrößen unterstützen und nutzt eine bewährte Wäscherscheibenkonstruktion für eine optimale Verschmutzungsentfernung von den Waferoberflächen. Insgesamt bietet ONTRAK Synergy Wafer und Maskenwäscher eine zuverlässige, kostengünstige Lösung für Halbleiterverarbeitungsanwendungen. Sein fortschrittliches Design und seine Eigenschaften bieten eine verbesserte Reinigungsleistung für Wafer und Masken sowie eine verbesserte Sicherheit für Benutzer. Darüber hinaus bietet seine Fähigkeit, Abwasser leicht zu sammeln und zu recyceln, und sein effizientes Filtersystem einen zuverlässigen Schutz vor Unterreparaturverschmutzung und Ertragsverlust, was es zu einer effektiven Lösung für Halbleitergewebe macht.