Gebraucht LAM RESEARCH / ONTRAK Synergy #9388332 zu verkaufen

ID: 9388332
System.
LAM RESEARCH/ONTRAK Synergy ist ein fortschrittlicher Wafer- und Maskenwäscher, der hauptsächlich in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Der Wäscher bietet eine hervorragende Reinigungsleistung basierend auf einer innovativen Kombination von Technologien, die sowohl von ONTRAK als auch von LAM RESEARCH entwickelt wurden. ONTRAK Synergy Scrubber verfügt über ein fortschrittliches zylindrisches Waschmodul mit zylindrischen Bürsten unterschiedlicher Größe und Dichte zum Einfangen und Entfernen von Partikeln, Resists und anderen Kontaminanten. Das Dualpulsventilsystem des Wäschers ermöglicht es der Bürste, genau den richtigen Druck auf die Oberfläche aufzubringen, wodurch das optimale Reinigungsniveau gewährleistet ist. Darüber hinaus sorgt die Doppelimpulsventilanordnung des Wäschers auch dafür, dass der Waschvorgang schonend und unschädlich ist. Der Schrubber verfügt auch über fortschrittliche Präzisionsantriebstechnologie von LAM RESEARCH/ONTRAK, um sicherzustellen, dass der Schrubbvorgang präzise und präzise ist. Die anspruchsvolle Motorsteuerung des Wäschers bietet eine reibungslose und zuverlässige Leistung, während die unabhängig gesteuerten Achsen es dem Wäscher ermöglichen, sich präzise über die Waferoberfläche zu bewegen und eine genaue Ausrichtung zu gewährleisten. LAM RESEARCH Synergy Scrubber verwendet auch fortschrittliche Flüssigkeitszufuhrtechnologie, um eine effektive Entfernung von Partikeln und Resiststoffen zu gewährleisten. Das Dual-Fluid-Verteilersystem arbeitet mit einem Durchflussregelventil, um dem Wäscher präzise Flüssigkeiten zuzuführen. Dies ermöglicht konsistente, präzise Reinigungsergebnisse und trägt zur Minimierung von Wafer- und Maskenschäden bei. Die fortschrittliche Waschtechnologie, die in Synergy Scrubber verwendet wird, hilft, den Gesamtertrag in der Wafer- und Maskenherstellung zu verbessern. Die Kombination aus pneumatischen und mechanischen Reinigungstechnologien ermöglicht eine schnellere und gründlichere Reinigung als herkömmliche Waschmethoden, während die präzise motorgetriebene Waschanlage und die Flüssigkeitszufuhrtechnologie dazu beitragen, dass Wafer und Masken sicher und effektiv gewaschen werden.
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