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MAT MAT 507BW
ID: 9382388
Scrubber.
MAT MAT 507BW ist ein innovativer Wafer- und Maskenwäscher, der Partikelverunreinigungen und andere Rückstände auf Substraten und Masken während des Wafer-Herstellungsprozesses leicht reduzieren kann. Dieser fortschrittliche Wäscher wurde entwickelt, um organische und anorganische Partikel effizient zu entfernen und ermöglicht die schnelle Verarbeitung mehrerer Substrate. Der Wafer- und Maskenwäscher besteht aus einer kompakten und robusten Edelstahlwäscherkammer mit zwei Stufen partikelentfernender Waschscheiben. Die erste Stufe dient zur Entfernung von Partikeln aus Wafern und Retikelmustern. Die zweite Stufe hilft bei der Entfernung von Partikeln aus den Mustern von SMIF/FOUP-Wafern. Der Wäscher verfügt zudem über eine automatisierte Mehrfachwafer-Kassettenhandhabung, die die Handhabung von Wafern vereinfacht. MAT 507BW verfügt über eine automatisierte Steuerung für den Scrubber-Betrieb mit erweiterten Funktionen wie Wafer-Anzahl, Fenstergröße, Schrubbdruck, Wafer-Indexierung und Transducer-Health-Monitoring. Der Wäscher weist ferner ein Drucksensorelement zur Echtzeitüberwachung des Substratwäscheprozesses auf, das eine präzise Steuerung der Verarbeitungsbedingungen ermöglicht. Der Wäscher verfügt auch über ein Benetzungssystem, das hilft, die Waschflächen ständig geschmiert zu halten, wodurch ein sauberes und gleichmäßiges Waschen von Wafern gewährleistet ist. Der Wäscher verfügt auch über eine erweiterte Extraktionseinheit, die bei der Entfernung von Partikeln hilft, die während des Waschvorgangs entstehen. Dies trägt dazu bei, ein optimales Maß an Sauberkeit in der Kammer zu erhalten und gleichzeitig das Anhaften von Partikeln an den Wafern und Masken zu verhindern. Der Scrubber verfügt auch über benutzerfreundliche Programmier- und Bedienbefehle, die die Bedienung vereinfachen. MAT MAT 507BW ist ein vielseitiger Wäscher, der sich ideal für die Herstellung von Halbleiterscheiben und die Reinigung von Masken eignet. Seine Mehrwafer-Kassettenhandhabungsmaschine beschleunigt den Waschvorgang und trägt gleichzeitig dazu bei, die Gefahr von Verunreinigungen durch das Eindringen in die Kammer zu verringern. Sein fortschrittliches Extraktionswerkzeug hilft, die Verarbeitungsumgebung sauber und frei von Partikeln zu halten, während sein Drucksensorelement eine präzise und konsistente Wäsche gewährleistet. Dieser fortschrittliche Wafer- und Maskenwäscher ist ein wertvolles Werkzeug in der Industrie, und sein robustes Design sorgt für zuverlässige, hochwertige Leistung.
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