Gebraucht MYSTAIR Misonix MTS 22 #138819 zu verkaufen

MYSTAIR Misonix MTS 22 ist ein leistungsstarker und effizienter Wafer & Maskenwäscher, der von MYSTAIR für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es wurde entwickelt, um eine kostengünstige, robuste und zuverlässige Plattform für die Reinigung von Halbleiterscheiben, Masken und anderen Materialien verschiedener Formen und Größen bereitzustellen. Die Einheit ist mit zwei unabhängigen Scheuerköpfen ausgestattet, die eine gleichzeitige Reinigung von zwei Wafern oder Masken ermöglichen, ohne dass zwangsläufig ein Scheuerkopf dazwischen gewechselt werden muss. Misonix MTS 22 wurde entwickelt, um eine hocheffiziente Waschwirkung zu bieten, um Partikel, Rückstände und Verunreinigungen zu entfernen, ohne das Substrat zu beschädigen. Dies wird durch die Zyklusumkehrung des Wäschers ermöglicht, die die Richtung der Wäscherbürsten abwechselt und dabei unerwünschte Partikel ständig wegschrubbt. Dadurch kann der Wäscher auf einer Vielzahl von Materialien mit ausgezeichneten Reinigungsergebnissen in kurzer Zeit eingesetzt werden. Darüber hinaus weist das Gerät auch variable Drehzahlen von bis zu 5.000 U/min auf, was präzise Waschvorgänge ermöglicht und die resultierenden Reinigungsergebnisse weiter verbessert. MYSTAIR Misonix MTS 22 ist auch mit einer elektronischen Timer-Ausrüstung zur Programmierung von Reinigungszyklen und zur Unterteilung des Schrubbprozesses in mehrere Schritte ausgestattet. Dadurch ist es möglich, den Waschvorgang auf bestimmte Substrate anzupassen, indem Scheuerkopfgeschwindigkeit, -winkel und -kraft bei Bedarf automatisch eingestellt werden. Darüber hinaus verfügt der Wäscher auch über einen Spritzschutz und ein Flüssigkeitsbehältersystem, um jegliches Chaos zu enthalten, das während des Waschvorgangs erzeugt wird. Abschließend ist Misonix MTS 22 Wafer & Maskenwäscher ein leistungsfähiges und zuverlässiges Reinigungsgerät für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Es ist entworfen, um Substrate schnell und mit minimaler Beschädigung des Materials zu reinigen, verfügt über variable Zyklusgeschwindigkeiten und ist mit einer elektronischen Timer-Einheit für die Programmierung und Anpassung des Reinigungszyklus für bestimmte Substrate ausgestattet. Das Gerät verfügt außerdem über einen Spritzschutz und eine Flüssigkeitsbehälter-Maschine zur weiteren Vermeidung von Störungen, was es zu einer ausgezeichneten Wahl für eine effektive und effiziente Reinigung von Wafern und Masken macht.