Gebraucht NIPPOLY ENGINEERING DD-20NX5-0 #9396807 zu verkaufen

NIPPOLY ENGINEERING DD-20NX5-0 Wafer und Maskenwäscher wurde speziell für die komplexesten Reinigungsanforderungen der heutigen Halbleitertechnologien entwickelt. Der Schrubber ist kompakt und leicht, aber dennoch hocheffizient in seiner Leistung. Seine primäre Funktion ist es, Partikel von kleinen Substraten wie Wafern und Photomasken zu entfernen. DD-20NX5-0 Wafer- und Maskenwäscher verfügt über eine leistungsstarke Gesichtssaugung, die eine außergewöhnliche Kontaktkraft mit kleinen Substraten bietet. Dadurch wird sichergestellt, dass auch kleinste Partikel erfolgreich entfernt werden, was eine saubere und sichere Umgebung für kritische Halbleiterbauelemente bietet. Der Wäscher ist auch mit einer Hochgeschwindigkeits-motorisierten Bürste für die gründliche, effiziente Entfernung von Feinstaub ausgestattet. Diese Bürste verringert ferner alle Ablagerungen, die von der Gesichtssauganlage verfehlt werden. NIPPOLY ENGINEERING DD-20NX5-0 ist mit einer Vielzahl von Leistungs- und Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um eine optimale Reinigungsleistung zu gewährleisten. Seine doppelbogenförmige Düse sorgt für eine stabile, gleichmäßige Ausrichtung des Wäschers während des Gebrauchs. Die mehrstufigen wasserdichten Dichtungen erhöhen die Integrität des Wäschers, um Verschüttete aufgrund eines Verstopfens oder einer Fehlfunktion zu vermeiden. Außerdem ist der Wäscher in der Lage, jeden Wassermangel automatisch zu erkennen, einen Warnalarm für Benutzer bereitzustellen und den Wäscher automatisch zu stoppen, um Schäden zu verhindern. Das flexible Design des Schrubbers ermöglicht auch eine große Bewegungsvielfalt für schwer zugängliche Oberflächen. Dies ermöglicht maximale Kontakt- und Reinigungsleistung und bietet eine gründliche Reinigung für empfindliche Substrate. Darüber hinaus ist das Gerät mit wählbaren Modi für die Nass- und Trockenreinigung ausgestattet, so dass es sich an eine Vielzahl von Halbleiterprozessanforderungen anpassen kann. Zusammenfassend ist DD-20NX5-0 Wafer- und Maskenwäscher eine hocheffiziente und zuverlässige Lösung für die kleine Substratreinigung. Seine kompakte Größe, sein variables Design und seine zahlreichen Sicherheitsmerkmale machen ihn zu einer hervorragenden Lösung für die empfindliche Reinigung von Halbleiterbauelementen.