Gebraucht ONTRAK DSS 200 series 2 #9107602 zu verkaufen

ONTRAK DSS 200 Serie 2 ist ein hochmoderner Wafer- und Maskenwäscher für den Einsatz in Halbleiterherstellungsanlagen. Dieser Wäscher verwendet eine Kombination aus Hochdruckwasserstrahlen und fortschrittlicher Mikrofasertechnologie, um sowohl Oberflächenverunreinigungen als auch eingebettete Partikel von Waferoberflächen zu entfernen. ONTRAK Wäscher verfügt über einen dreistufigen Reinigungsprozess, der sicherstellt, dass Wafer gründlich und konsequent gereinigt werden. Zunächst wird ein zweistufiges Hochdruckwasser-Spray verwendet, um größere Partikel wie Stempel, Druckfehler und Staub zu entleeren und zu entfernen. Eine oszillierende Bürste entfernt dann kleinere Gegenstände wie mikroskopische Partikel, die in der Oberfläche des Wafers untergebracht sind. Schließlich wird ein Mikrofaser-Wischtuch verwendet, um die restlichen Partikel einzufangen und zu entfernen. Das Modell ONTRAK DSS 200 der Serie 2 wird mit einer maßgeschneiderten Filterausrüstung geliefert, die Trümmer aus dem Reinigungsprozess erfasst und Verunreinigungen aus dem Duschwasser herausfiltert. Dieses Filtersystem maximiert die Leistung und Zuverlässigkeit des Wäschers, indem sichergestellt wird, dass das zur Reinigung verwendete Duschwasser frei von Verunreinigungen ist. Der Schrubber bietet auch mehrere erweiterte Sicherheits- und Komfortfunktionen. Seine Kreislaufeinheit überwacht während des Waschvorgangs ständig die Temperatur und den pH-Wert des Wassers. Darüber hinaus kann der Wäscher an Wafer aller Größen und Formen angepasst werden. Die digitale Steuerungsmaschine vereinfacht die Bedienung und Regelung des Wasserdrucks, der Wassertemperatur, der Bürstengeschwindigkeit und der Waschdauer, wodurch dieser Wäscher einfach zu bedienen und anzupassen ist. DSS 200 Serie 2 ist eine effiziente und zuverlässige Lösung zur Reinigung von Wafern und Masken. Seine Kombination aus Hochdruck-Wasserstrahlen, oszillierender Bürste und Mikrofasertüchern machen es ideal, um sowohl Oberflächenverunreinigungen als auch eingebettete Partikel von Waferoberflächen zu entfernen. Darüber hinaus sorgen das Filterwerkzeug und die fortschrittlichen Sicherheits- und Komfortfunktionen dafür, dass Wafer konsequent sicher und effizient gewaschen werden.