Gebraucht ONTRAK DSS 200 #9072610 zu verkaufen

ONTRAK DSS 200 ist ein vielseitiger und zuverlässiger Wafer- und Maskenwäscher, der den Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Das Gerät verfügt über ein ergonomisches Design, das eine schnelle und einfache Reinigung für eine Vielzahl von Wafer- und Maskensubstraten ermöglicht. Dieser Wäscher besteht aus einem Gleissystem mit horizontaler Strömung und Drehbewegung, das eine breite Palette von Substratgrößen unterstützt. Der Wäscher enthält drei Bürstenmodule, die eine robuste Reinigung von überlappenden und nicht überlappenden Funktionen bieten. Es bietet auch einen optionalen luftgetragenen Partikelfilter zur Beseitigung von Abfällen in der Luft, um eine optimale Umgebung und hervorragende Reinigungsleistung zu gewährleisten. Der Wäscher verfügt über eine eingebaute Stickstoffspüleinheit, um das Risiko eines Partikelaufbaus zu verringern, die Stabilität zu verbessern und die Reproduzierbarkeit zu verbessern. ONTRAK DSS-200 ist auch mit einer fortschrittlichen Steuerungsmaschine ausgestattet, die einen vollautomatischen Reinigungsprozess bietet, der mit minimalem Eingriff des Bedieners abläuft. Seine einfach zu bedienende, intuitive Benutzeroberfläche ermöglicht einen effizienten und störungsfreien Schrubbbetrieb, der zuverlässig, sicher und vorhersehbar ist. Der Wäscher ist in der Lage, bis zu 50 Wafer pro Stunde zu verarbeiten und somit für die Großserienproduktion geeignet. Durch die Verwendung von rezirkuliertem DI-Wasser ist DSS 200 in der Lage, alle Oberflächenverunreinigungen effektiv in Eingriff zu bringen, ohne Rückstände zu hinterlassen. Dies macht den Wäscher perfekt für eine breite Palette von Nassreinigungsanwendungen wie Filmabscheidung, Fotowiderstand-Asche und Photoresist-Strippen. Es enthält auch eine erweiterte Reinigungsoptionen wie selektive Funktion Schrubben und Substratorientierung Reinigung, so dass mehr Flexibilität und Anpassung bei der Reinigung. DSS-200 liefert dank seiner kapazitiven Bürstentechnologie zusammen mit fortschrittlicher, dynamischer Prozesssteuerungssoftware überlegene Reinigungsergebnisse. Dies gewährleistet eine gleichmäßige Planarisierung, verlängert die Lebensdauer der Bürsten und sorgt dafür, dass Wafer-Masken-Substrate immer so effektiv wie möglich gereinigt werden. Mit seiner überlegenen Reinigungsleistung und seiner intuitiven Benutzeroberfläche ist der Scrubber eine zuverlässige und kostengünstige Lösung, mit der Produktionsprozesse in einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsanwendungen optimiert werden können.