Gebraucht PSC CLEANING SYSTEMS INC ES523K448AST-480 #165384 zu verkaufen

PSC CLEANING SYSTEMS INC ES523K448AST-480 ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der speziell zur Entfernung von Oberflächenverunreinigungen aus Halbleiterscheiben und -masken entwickelt wurde. Dieser Wäscher verfügt über eine Vakuum-Reinigungskammer, die sowohl Standardgröße (30 cm) als auch großformatige (bis 300 cm) Wafer- und Maskenstücke aufnehmen kann. Der Wäscher verwendet eine einzigartige duale Reinigungseinheit zum Entfernen von Partikeln. Der obere Teil der Einheit besteht aus Vollgummiwalzen, die die Oberfläche der Halbleiterscheibe oder -maske drehen und schrubben, während der untere Teil aus weichen, rakelartigen Messern besteht, die helfen, lose Teilchen von der Oberfläche des Wafers oder der Maske zu sammeln und zu entfernen. ES523K448AST-480 Wäscher verfügt auch über ein integriertes zweistufiges Filtrationssystem zum Sammeln von Verunreinigungen. Der Primärfilter ist ein gesintertes Edelstahlgeflecht, das die meisten Partikel entfernt, während ein Sekundärfilter aus einem korrosionsbeständigen Netz die Luft weiter filtert, bevor es aus dem Wäscher ausgeschöpft wird. Zusätzlich ist der Scrubber mit einer digitalen Schnittstelle ausgestattet, die den Status des Scrubbers anzeigt und es dem Benutzer ermöglicht, seine Leistung fernzusteuern und zu überwachen. Eines der Hauptmerkmale von PSC CLEANING SYSTEMS INC ES523K448AST-480 scrubber ist seine Fähigkeit, bei sehr niedrigen Drücken zu arbeiten, was bei der Arbeit mit empfindlichen Materialien wie mikrobearbeiteten Oberflächen von Vorteil ist. Dieser Niederdruckbetrieb ermöglicht es dem Wäscher, sicher und effizient zu arbeiten und gleichzeitig Zeit und Energie zu sparen. Darüber hinaus beseitigt der Niederdruckbetrieb mögliche Schäden an empfindlichen Materialien, da der Wäscher nur mit einem minimalen Druck arbeitet, um die Waschkraft zu reduzieren. Sicherheitstechnisch ist ES523K448AST-480 Wäscher mit einem Not-Aus-Knopf ausgestattet, der die Maschine deaktiviert, wenn ein gefährlicher Zustand erkannt wird. Zusätzlich enthält der Wäscher ein Stickstoffspülsystem zur schnellen Verdampfung von Feuchtigkeit, zur Verhinderung von Korrosion und weiteren Beschädigungen des Wafers oder der Maske. PSC CLEANING SYSTEMS INC ES523K448AST-480 scrubber hat gegenüber anderen Verfahren zur Reinigung von Halbleiterscheiben und -masken eine Reihe von Vorteilen. Der Niederdruckbetrieb eignet sich perfekt für den Einsatz auf empfindlichen und empfindlichen Oberflächen, während das eingebaute Filtersystem für einen sauberen und sicheren Betrieb sorgt. Seine Eigenschaften machen es zu einer idealen Lösung für Labors, die schnell und sicher Oberflächenverunreinigungen aus ihren Halbleiterscheiben und Maskenstücken entfernen möchten.