Gebraucht RISHUO ENTERPRISE C2010-01 #293642040 zu verkaufen

RISHUO ENTERPRISE C2010-01 ist ein fortschrittlicher Wafer- und Maskenwäscher, der sowohl empfindliche Halbleitersubstrate als auch komplexe Photomasken reinigen soll. Diese Maschine ist in der Lage, mit einer Reihe von Partikelgrößen zu arbeiten, so dass der Bediener Fehler, Verunreinigungen, Resist-Rückstände und andere Arten von unerwünschten Partikeln leicht wegscheuern kann, ohne empfindliche Wafer und Masken zu beschädigen. Die Maschine ist mit einem vakuumabsorbierenden System und einem innovativen Waschbürstenfiltersystem ausgestattet. Dies hilft, den Reinigungsprozess effizient zu halten und die Gefahr einer Kontamination durch Kreuzkontamination und Luftverschmutzung zu vermeiden. Die Waschbürsten sind so konzipiert, dass ein gleichmäßiges und konsistentes Schrubben gewährleistet ist, das keinen Schaden verursacht. C2010-01 wird auch mit einem Wasser- und Reinigungslösungstank geliefert, der eine Vielzahl unterschiedlicher Betriebsbedingungen aufnehmen kann. Dieser Behälter kann auch temperaturgeregelt werden und ermöglicht bei Bedarf empfindlichere Reinigungsvorgänge. Die Maschine ist in der Lage, alle Metalle, organische Photoresistreste (OPR) und trockene Photoresistreste ohne Beschädigung zu reinigen. Darüber hinaus kann es verwendet werden, um unter anderem Verunreinigungen wie Ionen, Staub, Siloxan und YAG-Partikel zu entfernen, ohne unerwünschte Rückstände zu hinterlassen. RISHUO ENTERPRISE C2010-01 verfügt auch über einen High-End-automatischen Routinewaschzyklus, mit dem Bediener automatische Reinigungs- und Maskierungsprozesse programmieren können, die eine höhere Effizienz bieten und das Risiko menschlicher Fehler reduzieren. Darüber hinaus verfügt die Maschine auch über eingebaute Lasersensoren, um schnell genaue und zuverlässige Waferdaten fehlerfrei bereitzustellen. Dies ermöglicht dem Bediener eine größere Kontrolle über den Reinigungsprozess und hilft, unnötige Exposition von schädlichen Partikeln auf den Wafer oder die Maske zu vermeiden. Schließlich hat C2010-01 eine robuste Konstruktion und kommt mit einer Vielzahl von verschiedenen Komponenten, wie Bürsten, Lösungsmittel, Waschmittel und Viskositätsöle, für verschiedene Arten von Reinigung und Substrat. Darüber hinaus verfügt die Maschine über einen umfassenden Wartungsplan und eine Servicegarantie, die im Laufe der Zeit eine konstante und zuverlässige Leistung gewährleistet. Zusammenfassend ist RISHUO ENTERPRISE C2010-01 ein fortschrittlicher Wafer- und Maskenwäscher, der über eine breite Palette von Funktionen und Fähigkeiten verfügt, um den Betreibern mehr Kontrolle, Reinigungseffizienz und eine zuverlässige Wartungsgarantie zu bieten. Diese Maschine ist eine ideale Lösung für alle, die sowohl empfindliche Halbleitersubstrate als auch komplexe Photomasken reinigen müssen.