Gebraucht ROTHSE RR 6141 #9294531 zu verkaufen

ID: 9294531
Wafergröße: 6"
Inspection system, 6".
ROTHSE RR 6141 ist eine automatisierte Gerätelösung, die für den Einsatz in Halbleiterherstellungsprozessen und Wafermaskenwäscheanwendungen entwickelt wurde. RR 6141 ist ein horizontal montierter, in sich geschlossener und vollautomatischer Wafer-Maskenwäscher, der eine Oszillationsbewegung nutzt und über drei separate Reinigungsmodi verfügt: einseitige Reinigung, doppelseitige Reinigung und mehrschichtige Reinigung. ROTHSE RR 6141 wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Waschvorgängen durchzuführen. Erstens kann RR 6141 einseitige Waschvorgänge durchführen, das heißt, es kann verwendet werden, um eine Seite des Wafers und Maske in einem einzigen Lauf zu reinigen. Schließlich ist ROTHSE RR 6141 in der Lage, mehrschichtige Waschvorgänge durchzuführen, so dass es verschiedene Tiefen der Reinigung über mehrere Schichten einer Wafermaske zu vervollständigen. RR 6141 ist für den Betrieb mit einer maximalen Geschwindigkeit von 2000 Umdrehungen pro Minute ausgelegt, was eine gründliche und konsistente Reinigungsleistung bietet. ROTHSE RR 6141 ist mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet, die einen effizienten Betrieb und Einsatz unterstützen. Das Gerät verfügt über eine intuitive digitale Steuerung und eine benutzerfreundliche Oberfläche, die es ermöglicht, genau auf die gewünschte Reinigungsaufgabe konfiguriert zu werden. RR 6141 bietet eine breite Palette von Prozessparametern, so dass Benutzer ihre gewünschten Parameter wie die Richtung der Oszillationsbewegung, die Frequenz der Schwingung, Reinigungszyklusdauer und Verweilzeit auswählen können. ROTHSE RR 6141 beherbergt auch Sensoren und Monitore, um den ordnungsgemäßen Betrieb zu gewährleisten und Benutzer auf mögliche Wartungsprobleme aufmerksam zu machen. RR 6141 nutzt ein Gasmanagementsystem, das die Reinigungslösung ständig probiert und Sauerstoff- und Ozonwerte überwacht. Das Gerät ist auch mit einer automatisierten Inspektionseinheit ausgestattet, die die Oberfläche des Wafers und die Masken scannt, um sicherzustellen, dass sie sauber sind. ROTHSE RR 6141 kann in bestehende Produktionslinien integriert oder als eigenständige Einheit eingesetzt werden. Das Gerät ist mit einem modularen Aufbau ausgestattet, der es ermöglicht, es einfach neu zu ordnen und entsprechend den sich ändernden Produktionsanforderungen zu konfigurieren. Darüber hinaus ist RR 6141 auch Klasse-100 bewertet und verwendet synthetische Nitrilhandschuhe und HEPA-Filter, um Anwendern die Anforderungen des Reinraums zu erfüllen. Abschließend ist ROTHSE RR 6141 eine umfassende und hocheffiziente Lösung für Wafermaskenwaschanwendungen. Das Gerät bietet verschiedene Scrubbing-Modi, eine intuitive digitale Steuerung und eine breite Palette von Prozessparameterkonfigurationen. Das Gerät ist auch mit automatisierten Sensoren und einer Inspektionsmaschine ausgestattet, um einen effizienten Betrieb zu gewährleisten und die Reinraumanforderungen aufrechtzuerhalten.
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