Gebraucht SCHMID 352 #9118164 zu verkaufen

Hersteller
SCHMID
Modell
352
ID: 9118164
Weinlese: 2008
Phosphor doper flip station Electrical Specification: 400v, Frequency: 50hz Pneumatic Specification: 6 bar, Max: 300l/min 2008 vintage.
SCHMID 352 ist eine Spezialmaschine zum Schrubben von Wafern und Masken. Es wird hauptsächlich in der Halbleiterherstellung für Reinigungsaufgaben verwendet. 352 verwendet Ultraschallresonanztechnologie, um Partikel, Staub und Schmutz von empfindlichen Komponenten zu entfernen. Die Maschine nutzt Vibrationen, um Verunreinigungen von der Oberfläche der Materialien zu entfernen, um eine saubere Oberfläche zu erreichen. Es ist sehr effektiv und effizient für die Erfüllung einer beliebigen Anzahl von Schrubbaufgaben. SCHMID 352 verwendet ein Hochdruckwaschsystem, das eine starke Sprengung von Wasser erzeugt, und Mikro-abrasive Partikel, die die Verunreinigungen von der Oberfläche löst. Dieser Sprengung von Wasser folgt ein Ultraschallimpuls, der das kontaminierte Material vibriert. Diese Schwingungsenergie löst die Partikel und Schmutz von der Oberfläche, um ein sauberes Finish zu erreichen. Der Ultraschallimpuls hält auch die Mikro-Abrasationspartikel im Wasser suspendiert, so dass sie sich nicht wieder auf die sauberen Oberflächen absetzen. 352 verfügt über ein vollautomatisches Bedienfeld mit mehreren programmierbaren Funktionen. Dies bedeutet, dass der Endbenutzer seinen Schrubbprozess an seine spezifischen Bedürfnisse anpassen kann. Beispielsweise kann der Benutzer die genaue Dauer und Kraft der Wasserstrahlung und des Ultraschallimpulses wählen. Dies ermöglicht es dem Benutzer, die Reinigungseffizienz und Effektivität zu maximieren. SCHMID 352 verfügt zudem über ein modernes Filtersystem, das Kreuzkontaminationen zwischen Wafern und Masken verhindert. Dieses Filtrationssystem sammelt alle Verunreinigungen, die aus dem Waschprozess entweichen, so dass saubere Wafer und Masken frei von Schmutz oder Staub bleiben. Insgesamt bietet 352 eine zuverlässige, effektive und effiziente Lösung für das Wafer- und Maskenwaschen. Es ist eine ideale Wahl für Unternehmen, die Partikel, Staub und Abfälle aus ihren empfindlichen Komponenten mit Präzision und Zuverlässigkeit entfernen möchten.
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