Gebraucht SCREEN SS-3000-AR #293762738 zu verkaufen

SCREEN SS-3000-AR Wafer and Mask Scrubber ist eine fortschrittliche Reinigungslösung zur Entfernung von Partikeln, Verunreinigungen und Ölen aus Wafern und Masken in der Halbleiterindustrie. Es wurde entwickelt, um wiederholbare Reinigungsergebnisse unter Einhaltung der höchsten Umweltschutzstandards zu liefern. SS-3000-AR verwendet eine Reihe von Reinigungstechniken, um sicherzustellen, dass die Oberflächenverschmutzung vollständig von den Wafern und Masken entfernt wird. Dazu gehören Nasswäsche mit einer entfettenden Chemikalie, die in entionisiertem Wasser gelöst ist, neutrales pH-Reinigungsmittel, Ultraschallenergie und hochgeschwindigkeitsgefilterte Luftstrahlen. Der Wäscher ist mit einer automatischen Temperaturregelung ausgelegt und die Temperatur der Reinigungslösung kann zur Optimierung des Reinigungsprozesses angepasst werden. Die Bedienoberfläche ist benutzerfreundlich und ermöglicht eine Reihe von Aufgaben wie Einstellung der Reinigungszeit, Start/Stopp des Reinigungszyklus und Änderung der Temperatureinstellung. Es gibt auch eine Auto-Stop-Funktion, die das System herunterfährt, wenn die Verschmutzungswerte ihr Maximum erreichen. Ein Druckregler ermöglicht es dem Bediener, die Waschkraft zu variieren, und ein programmierbarer Timer kann eingestellt werden, um die Arbeitszeit zu begrenzen. Für zusätzliche Sicherheit und Komfort ist SCREEN SS-3000-AR mit mehreren Sicherheitssensoren ausgestattet, wie Sensoren, die den Wäscher stoppen, wenn er Objekte auf der Oberfläche der Wafer oder Masken erfasst. Die Kammer ist hermetisch abgedichtet ausgebildet und außerdem mit einem Luftströmungssensor ausgestattet, um sicherzustellen, dass sie sauerstofffrei bleibt. Es ist auch mit einer Autoklaventemperatureinstellung ausgelegt, die automatisch die richtige Temperatur einstellt, um Schäden an der Scheibe oder Maske zu verhindern. SS-3000-AR Wafer und Maske Scrubber ist für hohe Produktivität und eine Reihe von Reinigungstechniken konzipiert. Es wurde entwickelt, um sowohl Umweltschutzanforderungen als auch Sauberkeitsstandards zu erfüllen, um eine optimale Wafer- und Maskenreinigung zu gewährleisten. Die Ausrüstung ist benutzerfreundlich, sicher und effizient, so dass sie eine ideale Wahl für Halbleiter- und fortgeschrittene Wafer- und Maskenreinigung ist.