Gebraucht SCREEN SS-3100 #9284575 zu verkaufen

SCREEN SS-3100 ist ein hocheffizienter Wafer und Maskenwäscher. Es soll die Partikelverschmutzung auf Halbleiterscheiben und Photomasken bei der Halbleiterherstellung reduzieren. Es ist in der Lage, sowohl Wafer- als auch Maskenoberflächen mit geringer Kraft zu reinigen, wodurch Spannungen und Belastungen reduziert werden, die verzogene oder beschädigte Oberflächen verursachen können. SS-3100 ist in der Lage, Kontaminationen von der Oberfläche zu entfernen, indem Ultraschallschwingungen verwendet werden, um selbst mikroskopische Partikel von der Oberfläche zu entfernen. Dadurch wird eine möglichst hohe Sauberkeit des Wafers oder der Maske erreicht, so dass etwaige Fehler, die durch die Verschmutzung verursacht werden könnten, beseitigt werden. Es ist ein All-in-One-Wafer und Maskenwäscher, der mit luftbetriebenen Bürstenköpfen für ein gleichmäßiges Waschen sorgt. Die einzelnen Bürstenköpfe können sich unabhängig voneinander in beide Richtungen drehen und sind zur optimalen Reinigung in unmittelbarer Nähe zur Oberfläche positioniert. Der Wäscher ist außerdem mit einem automatisierten Schutzsystem ausgestattet, das verhindert, dass die auf die Oberfläche ausgeübte Kraft die vom Hersteller festgelegten empfohlenen Werte überschreitet. Die Waschwirkung von SCREEN SS-3100 ist in der Lage, sowohl feine Partikel als auch die oberflächenamorphe Verschmutzungsschicht auf dem Wafer oder der Maske zu entfernen. Dies sorgt für eine hohe Sauberkeit und ein homogenes Reinigungsergebnis. Darüber hinaus verursacht das Schrubben keine Beschädigung oder Zerstörung der Maske oder der Wafer-Markierung. Neben der effizienten Reinigungsaktion bietet SS-3100 auch eine intuitive und benutzerfreundliche Bedienung mit integrierten LCD-Touchscreen-Panels. Leicht verständliche Piktogramme vereinfachen die Einstellung der Parameter für unterschiedliche Reinigungsvorgänge. Es ist auch mit eingebauten Luftfilter- und Reinigungssystemen ausgestattet, die eine perfekt unverseuchte Umgebung für alle Reinigungsvorgänge gewährleisten. Insgesamt bietet SCREEN SS-3100 hocheffiziente Wafer- und Maskenwäsche, die Oberflächenverunreinigungen beseitigt und die Möglichkeit von Oberflächenfehlern durch mikroskopische Partikel beseitigt. Seine intuitive Bedienung, hochpräzise Waschwirkung und Luftfilter- und Reinigungssysteme machen es zum idealen Werkzeug für alle Wafer- und Maskenwaschvorgänge.