Gebraucht SOUR CORPORATION SC 500 #9377406 zu verkaufen

SOUR CORPORATION SC 500 ist ein automatisierter Wafer- und Maskenwäscher, der eine effektive und effiziente Lösung für die manuelle Reinigung von Photomaske- und Halbleiterprodukten bietet. Die Maschine verfügt über eine 360-Grad-Rotations-Peeling-Plattform und eine fortschrittliche Optik, um innerhalb von Mikrometern der Kanten der Wafer- und Maskenoberflächen zu erreichen und zu schrubben. Die Einheit protokolliert Bedieneraktionen und liefert eine detaillierte Reinigungshistorie der Produktionssitzung. Darüber hinaus ist der Schrubber mit einem synchrone Steifigkeitsantrieb (SSD) ausgestattet, der die Scheuerleistung erhöht und eine präzise Steuerung der Staubansammlung bietet. Der Wafer- und Maskenwäscher wurde entwickelt, um bis zu 500 Wafer/Masken pro Stunde zu reinigen, wobei bis zu 10 Wafer/Masken in seinem sicheren Peeling-Tablett gehalten werden. Möglich macht dies das robuste Antriebssystem des Geräts und die effiziente Bürstenwäschetechnik, die gemeinsam ein optimales Reinigungsergebnis erzielen. SC 500 kommt mit zwei flexiblen Reinigungsmodi. Der erste Modus, der Standard Wafer/Mask Reinigungsmodus, ist der Reinigung von Photomasken gewidmet. Der zweite Modus ist der Advanced Wafer/Mask Cleaning Mode, der für die Reinigung beider Arten von Halbleiterscheiben konzipiert ist. Je nach Anwendung können verschiedene Flüssigkeiten und Chemikalien verwendet werden, um die Waschleistung zu steigern. SOUR CORPORATION SC 500 verfügt auch über eine umfassende UI/UX, mit der Bediener den Reinigungsablauf einfach anpassen und steuern können. Verschiedene Einstellungen ermöglichen es dem Bediener, die Geschwindigkeit, den Wasserdruck und die chemische Konzentration anzupassen und so ein optimales Reinigungsergebnis zu erzielen. Darüber hinaus wird das Gerät mit einer Reihe von Diagnosesoftware und Sicherheitssystemen geladen, um einen zuverlässigen Betrieb zu gewährleisten. SC 500 ist ein effizienter, vielseitiger und zuverlässiger Wafer- und Maskenwäscher, der für die meisten Photomaske- und Halbleiterreinigungsanforderungen geeignet ist. Das automatische, ergonomische Design und die intuitive UI/UX machen die Reinigung von Wafern/Masken zu einem stressfreien und mühelosen Prozess.