Gebraucht SOWNG SUE-WE81 #9390226 zu verkaufen

SOWNG SUE-WE81 ist ein automatisierter Wafer- und Maskenwäscher zur effizienten Reinigung und Dekontamination von Wafer- und Maskenoberflächen. Der Schrubber wurde speziell entwickelt, um die bestmögliche Reinigung und Dekontamination von Wafer- und Maskenoberflächen zu gewährleisten, sodass Benutzer das Beste aus dem Reinigungsprozess herausholen können. SUE-WE81 Wäscher ist ideal für den Einsatz in allen Arten von Halbleiter- und fortschrittlichen Werkstoffherstellungsprozessen. SOWNG SUE-WE81 scrubber wurde entwickelt, um extrem effiziente Reinigung und Dekontamination von Wafer- und Maskenoberflächen mit minimalen Unterbrechungen zu ermöglichen. Die Wäschewirkung des Wäschers ist schonend und dennoch wirksam ausgelegt, was eine umfassende Dekontamination der Oberflächen im Prozess ermöglicht. Der Wäscher ist mit einer Reihe von rotierenden Bürsten ausgestattet, die sich schonend, aber effizient über die Oberfläche des Substrats bewegen und Oberflächenaufbau und andere Verunreinigungen entfernen, während das Dekontaminationsmodul eine spezielle Dekontaminationslösung über die Oberfläche des Substrats aufbringt, um verbleibende Rückstände zu entfernen. Der Wäscher enthält auch ein Luftstromsystem, das dazu beiträgt, dass der Reinigungsprozess wirksam ist und eine Kontamination der Oberfläche verhindert. SUE-WE81 Scrubber kommt auch mit einer Reihe von zusätzlichen Funktionen und wurde entworfen, um einfach und effizient zu bedienen. Der Schrubber verfügt über eine benutzerfreundliche Bedienungsanleitung und ein integriertes grafisches Display, das die Benutzer durch den Reinigungs- und Dekontaminationsprozess führt. Darüber hinaus ist das Gewaschene mit einem fortschrittlichen Überwachungssystem ausgestattet, das Rückmeldung über den Fortschritt des Reinigungsprozesses geben kann, sowie eine bequeme Aufbewahrungsschublade, in der gebrauchte Reinigungslösungen gesammelt werden können. Insgesamt ist SOWNG SUE-WE81 ein automatisierter Wafer- und Maskenwäscher, der eine effiziente und effektive Lösung für die Reinigung und Dekontamination von Wafer- und Maskenoberflächen bietet. Der Schrubber ist unglaublich einfach zu bedienen und wurde mit einer Reihe fortschrittlicher Funktionen entwickelt, was ihn zu einer idealen Lösung für eine Vielzahl von Halbleiter- und fortschrittlichen Materialherstellungsprozessen macht.