Gebraucht SSEC 10 #9395558 zu verkaufen

SSEC 10 ist ein Wafer & Maskenwäscher, der für einen sauberen Oberflächen- und Substratreinigungsprozess in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Dieser Wäscher ist eine zweistufige Reinigungsmaschine, die hervorragende Reinigungsergebnisse liefert. Die erste Stufe beinhaltet die Reinigung beider Oberflächen der Wafer & Maske mit zwei Edelstahlbürsten, die das Material drehen und sanft schrubben, ohne die Maskierungsschicht zu beschädigen. Die vordosierten Chemikalien werden auf das Substrat aufgebracht, um sicherzustellen, dass sowohl die Oberfläche als auch die Unterseite der Maske effektiv gereinigt werden. Nach Beendigung des Waschvorgangs gelangt der Wafer & die Maske auf eine zu spülende und zu trocknende Waschstufe, wodurch die Oberfläche zur weiteren Verarbeitung bereit ist. 10 scrubber bietet eine breite Palette von Funktionen und Vorteilen wie: sein ergonomisches Design, ein hochwertiges Edelstahl-Ritzel, ein transparenter Kühler zur Verbesserung der Reaktionszeit, nicht abrasive Reinigungsbürsten, eine einstellbare Wassertemperatur, ein hochauflösender digitaler Touchscreen zur präzisen Kontrolle der Reinigungsparameter und ein automatisiertes Tanksystem, das durch zusätzliche Reinigungsstufen erweitert werden kann. Darüber hinaus ist der Wäscher auch mit einer steuerbaren Reinigungsdüse ausgestattet, die einen weiten Durchflussbereich für verschiedene Reinigungsstufen bereitstellen kann und gleichzeitig die Einstellung der Reinigungstemperatur ermöglicht. Darüber hinaus ist der Wäscher mit einem integrierten Vakuumsystem ausgestattet, das eine vollständige Reinigung des Wafers und der Maske vor dem Aufbringen der vordosierten Chemikalien ermöglicht. SSEC 10 Wafer & Maskenwäscher ist hocheffizient und bietet eine breite Palette von Funktionen, die für höchste Leistung und Zuverlässigkeit bei der Substratreinigung ausgelegt sind. Diese Maschine eignet sich für verschiedene Produktionslinien und ist darauf ausgelegt, den Reinigungsprozess zu optimieren und gleichzeitig die Zeit für den Abschluss des Betriebs drastisch zu reduzieren. Durch den automatisierten Reinigungsprozess sorgt diese Maschine dafür, dass Wafer & Masken schnell und ohne Schäden gereinigt werden.