Gebraucht SSEC 1756 #9018957 zu verkaufen

SSEC 1756 ist ein Wafer- und Maskenwäscher für den Einsatz in Halbleiterherstellungsanlagen. Es wurde speziell entwickelt, um unerwünschte Partikel und Verunreinigungen von Wafer- und Photomaskenoberflächen sicher zu entfernen. Der Wäscher soll das Risiko von Ertragsverlusten und Verschmutzungen bei kritischen Photolithographiebetrieben minimieren. 1756 ist ein automatisiertes Gerät mit Hochvakuumgenerator, manueller Steuereinheit und optionalem Wäscherkopf. Der maßgeschneiderte Waschkopf kann sowohl flache als auch konturierte Wafer und Photomasken aufnehmen und auf die Prozessparameter und die Substratform abgestimmt werden. Der Waschkopf verwendet ein Ein- oder Doppelpass-System mit einstellbarem Waschdruck und Kompression für optimale Steuerung und Flexibilität. Der Wäscher ist so konzipiert, dass er sich automatisch auf die genaue Position und Position auf der Wafer- oder Photomaskenoberfläche einstellt. Diese Positionierung hilft bei der Entfernung unerwünschter Partikel ohne Beeinträchtigung der Substratintegrität. Darüber hinaus verfügt der Wäscherkopf über eine elektronische Waferausrichteinheit zur Verringerung der Waschfehlausrichtung. Die Waschwirkung kann an die spezifischen Anforderungen des Substrats und des Verfahrens angepasst werden. Die Waschmittel sind aus einem weichen, porösen Material gefertigt und dienen dazu, jeglichen Rückstandsaufbau abzuwischen. Die Waschwirkung wird elektrostatisch angetrieben, was einen reibungsärmeren, konsistenteren Prozess erzeugt. Die optionale Inline-Partikelüberwachungsmaschine liefert genaue Daten über den Partikelstand in der Prozesskammer. Diese Daten können zur Anpassung des Waschprozesses verwendet werden, um die Leistung und Genauigkeit des Waschprozesses weiter zu verbessern. Der Schrubber ist zudem so sicher und benutzerfreundlich wie möglich gestaltet. Alle Komponenten sind ergonomisch ausgelegt, um Ermüdung zu reduzieren, und die Konstruktion des Wäschers bietet eine verlängerte Lebensdauer und sicheren Betrieb zu jeder Zeit. Die Bedienelemente sind auch einfach und einfach, so dass es für eine Vielzahl von Benutzern zugänglich. Insgesamt wurde SSEC 1756 entwickelt, um die höchste Waschleistung und Partikeldetektion zu gewährleisten und gleichzeitig die Sicherheit und Benutzerfreundlichkeit zu optimieren. Seine fortschrittlichen Eigenschaften und die Fähigkeit, flache und konturierte Substrate zu reinigen, bieten ein unglaublich wertvolles Werkzeug für die Halbleiterherstellung.