Gebraucht SSEC 200 #142268 zu verkaufen

SSEC 200 ist eine fortschrittliche Waschanlage, die entwickelt wurde, um die Ausbeute an rückseitig beleuchteten (BSI) Wafern und Maskierungsanwendungen zu reinigen und zu verbessern. Es ist für den Einsatz mit hochempfindlichen Wafermaterialien optimiert, die eine präzise Steuerung von Reinigungsparametern und Hochdruckstrahlen wie Silizium und Quarzscheiben erfordern. 200 verwendet eine einzigartige und leistungsstarke Waschstrategie, die einen Hochdruckwäscher und eine doppelte Waferunterstützungskonfiguration umfasst. Seine Waschköpfe sind speziell entwickelt, um die Reinigungsenergie und die Flüssigkeitszufuhr genau zu bestimmen und zu steuern. Die Waschköpfe können präzise ausgerichtet und eingestellt werden, was eine optimale Reinigungsabdeckung und eine gleichmäßige Hochdruck-N2-Reinigung ermöglicht. Die SSEC 200 verfügt über ein vollautomatisches Waschsystem ohne Eingriff des Bedieners. Anwender können den Prozess durch eine ausgeklügelte Steuereinheit, die alle Scrubbing-Parameter überwacht, feinabstimmen. Dies ist ein besonders kritischer Aspekt für Maskierungsanwendungen, bei denen Wafer in der Regel nicht flach sind. 200 ist aufgrund seines schnellen Schrubbzyklus auch in der Lage, Anwendungen mit hohem Durchsatz zu bewältigen. SSEC 200 wurde mit einer Tiefenreinigungsstrategie entwickelt, um Partikel bis auf den durch Plasmaätzen erzeugten Wert von 1 μ m zu eliminieren. Die Reinigungsergebnisse werden im Vergleich zu herkömmlichen Waschsystemen deutlich verbessert und die Reinigungszeit für jede Maske bzw. jeden Wafer erheblich verkürzt. 200 ist auch mit einem sehr langlebigen Edelstahl Waschtank gebaut. Seine in sich geschlossene Wasserreinigungsmaschine sorgt dafür, dass Verunreinigungspartikel effektiv im Waschbehälter eingeschlossen werden, wodurch eine weitere Ausbreitung innerhalb der Umwelt verhindert wird. Auch dieses innovative Waschwerkzeug wird präventiv versiegelt, wodurch eine zusätzliche Schutzschicht für die Umwelt entsteht. Insgesamt ist SSEC 200 eine ideale Wahl für das Schrubben der meisten Arten von empfindlichen Wafer- und Maskierungsanwendungen. Seine hochspezialisierten Eigenschaften bieten eine präzise Steuerung von Reinigungsparametern und Energie, was zu verbesserten Ausbeuten und einer deutlich reduzierten Waschzykluszeit führt. Seine sehr langlebige Konstruktion und die eigenständige Wasseraufbereitung machen es auch zu einer umweltfreundlichen Option.