Gebraucht SSEC 300 ML Evergreen Series III #9140 zu verkaufen

SSEC 300 ML Evergreen Series III ist eine leistungsstarke Wafer- und Maskenwäscherausrüstung, die für die heutigen anspruchsvollen Halbleiterherstellungsprozesse entwickelt wurde. Das System bietet eine erweiterte Palette von Waschparametern für eine Vielzahl von Wafergrößen, Materialien und Oberflächenveredelungen. Die Einheit besteht aus drei Hauptkomponenten: einem Waferwäscher, einem Maskenwäscher und einem Waferhalter. Der Wafer-Wäscher wurde entwickelt, um einen aggressiveren Waschprozess einzuhalten als die anderen, während die Prozesszeit und die Kontaminationsstufen minimiert werden. Der hochpräzise Maskenwäscher wurde entwickelt, um eine optimale Abscheidungsgleichmäßigkeit zu erzielen und ein hohes Maß an Sauberkeit und Präzision zu erhalten. Der Waferhalter hält bis zu sechs 6 "-Wafer senkrecht gestapelt, um den Waferdurchsatz zu maximieren. Der Waferwäscher umfasst ein zweistufiges Verfahren mit Vorwäsche- und Nachwäschezyklen zur Minimierung der Waferkontamination. Die Vorwäsche verwendet eine Schleifschlamm oder Reinigungslösung, um Rückstände von der Waferoberfläche vor dem Nachwäschezyklus zu entfernen. Der Nachwaschzyklus soll die Anzahl der Restpartikel auf der Waferoberfläche durch eine gleichmäßige Waschabdeckung weiter reduzieren. Der Maskenwäscher verwendet einen einstufigen Reinigungsprozess und besteht aus einer Reihe von Schwämmen, kleinen Bürsten und Mikroschleifmitteln, um Schutt und Oxidationsschutt zu entfernen. Die Schwämme lösen Partikel aus, die auf der Maskenoberfläche haften, während die Bürsten dazu ausgelegt sind, leichte Rückstände sanft abzubürsten. Die Mikroschleifmittel entfernen Oxidation und Korrosion, was zur Reduktion von Maskenätzlinien führen kann. Zur Leistungsoptimierung wird die Maschine SSEC 300ML EVERGREEN SERIES III mit einer automatisierten Wafer- und Maskenwäscherstation ausgestattet. Die Wäscherstation ermöglicht es den Betreibern, schnell und präzise besser zu programmieren als menschliche Wäscheparameter für verschiedene Wafer- und Maskengrößen, Materialien und Oberflächenveredelungen. Automatisierte Waschprozesse ermöglichen auch einen schnelleren Durchsatz und eine verbesserte Lithographie-Gleichmäßigkeit und Genauigkeit. 300 ML Evergreen Series III ist eine ideale Wahl für die Herstellung von integrierten Schaltungen, optischen Systemen und anderen Halbleiteranwendungen, die präzise polierte Oberflächen ohne Verschmutzung erfordern. Mit seinen automatisierten, hochpräzisen Waschprozessen liefert das Werkzeug konsistente, schmutz- und oxidationsfreie Wafer- und Maskenoberflächen für optimale Lithographie-Gleichmäßigkeit, Genauigkeit und Ausbeute.