Gebraucht SSEC 3204 #9032546 zu verkaufen

SSEC 3204 ist ein Wafer- und Maskenwäscher für den Einsatz in der Halbleiterätzung, Lithographie und anderen Prozessen, die die Entfernung von Verunreinigungen von den Oberflächen von Scheiben und flachen Substraten erfordern. Der Wäscher besteht aus drei verschiedenen Teilen: einem mechanischen Kopf, einer Steuereinrichtung und einem Gehäuse. Der mechanische Kopf ist ein Dreharm, der in ein Schutzgehäuse eingeschlossen ist. Der Arm ist an einem bürstenartigen Waschkopf befestigt, der sich schnell dreht, um Wafer und Masken effektiv zu reinigen. Der Waschkopf besteht je nach Anwendungsfall aus verschiedenen Materialien. Viele sind aus Nylon oder anderen Polymeren konstruiert, die Verunreinigungen wegschrubben sollen, ohne die Oberfläche selbst zu beschädigen. Der mechanische Kopf enthält auch Sensoren, mit denen der Waschvorgang ferngesteuert und überwacht werden kann. Die Steuerung des Wäschers besteht aus einem Mikrocontroller, der den Waschvorgang kontinuierlich überwacht. Das Steuergerät besteht aus einer Reihe von Anschlüssen, einschließlich einer USB-Verbindung, die es ermöglicht, die Scrubbing-Einstellungen von einem zentralen Ort aus einzustellen und zu überwachen. Die Steuermaschine enthält auch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, wie Drehzahlregelung und Notabschaltung, die ferngesteuert aktiviert werden können. Schließlich ist das Gehäuse von 3204 entworfen, um Geräusche und Staub zu minimieren. Das Gehäuse besteht aus mehreren verbundenen Metallblechen, wodurch eine geringe Staub- und Geräuschabdichtung entsteht. Zusätzlich ist das Gehäuse mit einer Reihe von Filtern ausgestattet, um sicherzustellen, dass während des Waschvorgangs entstehender Staub vollständig im Wäschergehäuse enthalten ist. Insgesamt ist SSEC 3204 als zuverlässiges und einfach zu bedienendes Werkzeug zum Wafer- und Maskenschrubben konzipiert. Die Kombination aus dem langlebigen mechanischen Waschkopf, der fortschrittlichen Steuerung und dem akustischen und staubfreien Gehäuse machen 3204 zur idealen Wahl für Halbleiter- und Lithographie-Waschanwendungen.