Gebraucht SSEC 3300 ML #9163023 zu verkaufen

Hersteller
SSEC
Modell
3300 ML
ID: 9163023
Trillenium photomask cleaner Single brush scrub.
SSEC 3300 ML ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der verwendet wird, um die Biomasse während des Nachbelichtungsprozesses aus dem Gesicht einer Photomaske zu entfernen. Der Wäscher strahlt einen Hochdruckstrom Wasser auf die Maskenoberfläche, was eine überlegene Reinigungswirkung bietet. Der Strom hinterlässt auch eine Schutzschicht aus Öl über die Oberfläche, die zur Vermeidung weiterer Verunreinigungen beiträgt. Der Scrubber wird mit integrierten Durchfluss- und Temperatureinstellungen geliefert, die es dem Benutzer ermöglichen, diese an die spezifischen Anforderungen des Prozesses anzupassen. SSEC 3300ML scrubber ist mit fortschrittlichen Funktionen konzipiert, die einen effizienteren und zuverlässigeren Reinigungsprozess ermöglichen. Es enthält ein patentiertes Durchflussventil, das einen gleichmäßigen Durchfluss von Reinigungsflüssigkeit ermöglicht, und der Wäscherkopf ist so ausgelegt, dass er den Winkel und den Druck der Wasserstrahlen automatisch einstellt, um eine effektive Waschwirkung zu erzielen. Der Wäscher kann sowohl trockene als auch nasse Masken handhaben und arbeitet mit einem Mindestwasserdruck von nur 1000psi. Der 32-Liter-Tank hilft, Nachfüllzeiten zu minimieren und liefert konsistente Reinigungsergebnisse. 3300 ML Wäscher ist auch mit energiesparenden LED-Beleuchtung ausgestattet, die hilft, die Maskenoberfläche während des Reinigungsprozesses zu beleuchten. Dies ermöglicht eine genauere und präzisere Reinigung jedes Merkmals. Der Schrubber hat auch einen ergonomischen Griff und ein leichtes Außengehäuse, um es benutzerfreundlicher und komfortabler zu handhaben. Darüber hinaus verfügt es über ein digitales Bedienfeld, das es dem Benutzer ermöglicht, voreingestellte Parameter wie die Menge des Wasserdrucks, den Winkel der Düsen und die Dauer des Reinigungszyklus auszuwählen. 3300ML ist ein effektives und zuverlässiges Reinigungssystem, das sich ideal für den Einsatz im Photolithographieverfahren eignet. Dank der automatisierten Funktionen und der einstellbaren Durchfluss- und Temperatureinstellungen ist es eine einfache und effiziente Lösung für die Aufrechterhaltung sauberer Maskenoberflächen während der Produktion.
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