Gebraucht SSEC 3300 #9205591 zu verkaufen

SSEC 3300 Wafer & Maskenwäscher ist ein automatisiertes Reinigungssystem, das für den Einsatz in der Halbleiterherstellung und anderen Präzisionsbeschichtungsprozessen konzipiert ist. Es bietet einen gründlichen und effizienten Reinigungsprozess, indem ein Strom von empfindlicher Waschflüssigkeit verwendet wird, der kontinuierlich der Oberfläche eines Wafers oder einer Maske zugeführt wird. Das Gerät bietet eine Vielzahl von Einstellungen, um sicherzustellen, dass die richtigen Reinigungsprozesse für verschiedene Materialien und Zwecke erreicht werden. 3300 Wafer & Maskenwäscher hat ein integriertes Design, das auf den neuesten Technologien basiert und für einen schnellen und effizienten Betrieb optimiert ist. Sein Design enthält eine Reihe von Funktionen, die dazu beitragen, die Reinigungsleistung zu maximieren und die Zykluszeit zu minimieren. Der Wäscher verfügt über ein einzigartiges Waschflüssigkeits-Zufuhrsystem mit einstellbaren Durchfluss-, Druck- und Drehzahleinstellungen, um den Waschprozess für verschiedene Arten von Substraten und Reinigungsanwendungen anzupassen. Zusätzlich bietet der Wäscher Echtzeit-Bedienfelder zur Überwachung und Regelung des Reinigungsprozesses. Der Wäscher nutzt sowohl mechanische als auch chemische Reinigungsmaßnahmen, um verschiedene Arten von Oberflächenverunreinigungen effektiv zu entfernen. Die mechanische Waschwirkung wird durch eine rotierende weiche Bürste erreicht, die mit der Oberfläche des Substrats in Kontakt gebracht wird. Die Bürstenborsten wirken wie ein Waschkissen, um Oberflächenabfälle, Staub und Verunreinigungen zu entfernen. Zur Verbesserung des Reinigungsprozesses können verschiedene Waschflüssigkeiten eingesetzt werden. Die Waschflüssigkeit wird dann durch Strahlen um den Umfang des Wäschers und auf die Oberfläche des Substrats gedrückt. Das Pressen und Spülen der Oberflächenabfälle und Verunreinigungen von der Reinigungsoberfläche sowie Reinigen der Oberfläche des Substrats von eventuell zurückgelassenen Rückständen. Die Waschflüssigkeit wird dann schnell abgelassen und nimmt Schmutz, Staub und Verunreinigungen mit, die angehoben wurden. Die Kombination von mechanischen und chemischen Reinigungsprozessen, die in SSEC 3300 Wafer & Maskenwäscher eingesetzt werden, führt zu überlegener Reinigungsqualität und effizientem Betrieb. Das Gerät bietet auch eine Reihe von erweiterten Sicherheitsfunktionen, einschließlich automatischer Abschaltung, wenn die Waschflüssigkeit niedrig ist, so dass es verwendet werden kann, ohne Angst vor Schäden an empfindlichen Substraten und Belägen. Mit seinem benutzerfreundlichen Design, seiner kompakten Größe und der hervorragenden Reinigungseffizienz ist 3300 Wafer & Maskenwäscher eine ausgezeichnete Wahl für jede Halbleiter- oder Präzisionsbeschichtungsanwendung.