Gebraucht SSEC 3300 #9302847 zu verkaufen

SSEC 3300 ist ein Wafer- und Maskenwäscher zur Reinigung von Standard-Halbleitersubstraten für die Lithographie-Verarbeitung. Das Gerät verfügt über ein Niederdruck, konstantes Drehmoment Glaswalzensystem, das es ermöglicht, Partikel und Schmutz vom Substrat zu entfernen, ohne Schäden zu verursachen. Der Schrubber bietet auch eine Auswahl an programmierbaren Einstellungen, die es ermöglichen, unterschiedliche Ebenen des Scheuerdrucks auf flache oder gekrümmte Oberflächen anzuwenden. Der Scheuerdruck kann eingestellt werden, um einen maximalen Wirkungsgrad zu gewährleisten und gleichzeitig die Integrität des Substrats zu erhalten. Das Gerät arbeitet in Reinraumumgebungen und ist mit einer Teflon-beschichteten Edelstahlplattform und Rollen konstruiert, um den statischen Aufbau und die Kontamination zu reduzieren. Die Teflonbeschichtung trägt dazu bei, dass das Substrat gründlich gereinigt wird, da es frei von Rückständen ist, was zu Produktionsfehlern führen könnte. Die Maschine ist auch mit einem UV-Licht ausgestattet, das bei der Tötung von Mikroorganismen in der Luft und der Verringerung des Kontaminationspotenzials hilft. 3300 ist auch mit einem Hochleistungsvakuum ausgestattet, um Partikel und Schmutz zu sammeln und eine vollständige Entfernung vom Substrat zu gewährleisten. Es verfügt über einen einstellbaren drehzahlgesteuerten Rührmechanismus zur einfachen Reinigung der Substrate. Zusätzlich ermöglicht die einstellbare Geschwindigkeitsregelung kontrollierte Reinigungsmuster, die Verschwendung reduzieren und Erträge aus Produktionsprozessen verbessern können. Das Werkzeug kann einfach programmiert werden, um automatisch zu arbeiten und kann einfach in eine Produktionslinie integriert werden. Es ist langlebig, zuverlässig und einfach zu bedienen und kann für eine Vielzahl von Reinigungsprozessen innerhalb einer Produktionslinie verwendet werden. Darüber hinaus ermöglicht SSEC 3300 kundenspezifische Programmierbarkeit für verschiedene Arten von Substraten und Anwendungen, was es zu einem vielseitigen und praktischen Werkzeug macht. Insgesamt ist 3300 eine effiziente und effektive Hochleistungsanlage, die für Standard-Halbleitersubstrate geeignet ist. Sein variabler Scheuerdruck und einstellbarer geschwindigkeitsgesteuerter Rührmechanismus ermöglicht eine überlegene Partikel- und Schmutzentfernung bei gleichzeitiger Gewährleistung der Substratintegrität. Seine langlebige, wartungsarme Konstruktion, zuverlässige Leistung und umfassende Programmierbarkeit machen SSEC 3300 zu einer idealen Wahl für jede Lithographie-Produktionslinie.