Gebraucht SSEC 3300 #9302848 zu verkaufen

SSEC 3300
Hersteller
SSEC
Modell
3300
ID: 9302848
Cleaner With IPA rinse.
SSEC 3300 ist ein Wafer/Maskenwäscher zur Entfernung von Partikeln, organischen Verbindungen und anderen Verunreinigungen, die die Qualität lichtempfindlicher Oberflächen beeinträchtigen oder die Ausbeute während des Lithographieprozesses beeinträchtigen können. Die Ausrüstung ist ein einseitiger planarer (SSP) Rotator, der mit einem dreistufigen Verfahren konfiguriert ist, bei dem drei verschiedene nasse chemische und Spülbäder verwendet werden, um Verunreinigungen aus dem Wafer oder der Maske zu entfernen. 3300 enthält eine nasse Bank, die die primäre Wafer/Masken-Bearbeitungskammer umfasst, die bis zu sechs 300mm Wafer oder Masken aufnimmt, eine Hilfskammer zur Aufnahme von bis zu zwei 150mm Wafern oder Masken und einen dritten großen Zyklusbehälter zur Aufnahme von bis zu zwei 450mm Wafern oder Masken. Zur Nassbank des Systems gehören auch ein Hubwerk und ein Dampferzeuger sowie Temperatur- und Drucksensoren. Der Wafer/Maske-Waschvorgang umfasst die folgenden drei Schritte: Vorspülen, schrubben und nachspülen. Im Vorspülschritt wird die Scheibe/Maske zunächst in ein ultrareines Wasser getaucht, um Partikel und organische Verbindungen von der Oberfläche der Scheibe/Maske zu entfernen. Danach werden die Scheiben/Masken in einer halbwässrigen, chemischen Lösung wie Lösungsmittel gewaschen, die Partikel, organische Verbindungen und andere Verunreinigungen aus der Scheibe/Maske emulgiert und entfernt. Schließlich wird die Scheibe/Maske in einem zweiten ultrareinen Wasserbad gespült, wodurch die restlichen Verunreinigungen entfernt werden. SSEC 3300 verfügt zudem über eine leistungsstarke Luftleitungszirkulationseinheit, die dazu beiträgt, dass die Lösungen in der Kammer immer in Bewegung und bei gleichbleibender Temperatur sind. Dies hilft, den Wafer/Maske Schrubbing Prozess zu erhöhen. Darüber hinaus umfasst die Maschine auch ein automatisches Wafer/Masken-Be- und Entladewerkzeug, das die Effizienz im Wafer/Masken-Waschprozess erhöht. Das Asset ist einfach zu bedienen und kann an die spezifischen Scrubbing-Anforderungen einer bestimmten Anwendung angepasst werden. Das ergonomische Design erhöht zudem den Bedienkomfort und verringert die Ermüdung. Schließlich ist 3300 aus korrosionsbeständigen Materialien aufgebaut, so dass es den rauen korrosiven Umgebungen des Lithographieprozesses standhalten kann.
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