Gebraucht SSEC 3302 #9225599 zu verkaufen

SSEC 3302 ist ein Wafer & Maskenwäscher der Firma Service Systems (SSEC). Dieser Wäscher ist für den Einsatz in Halbleiterherstellungsanlagen konzipiert, um Partikel und Abfälle aus Wafern und Masken sauber und effizient zu entfernen. 3302 verfügt über ein robustes und effektives Waschverfahren, das aus zwei Hauptstufen besteht; das Peeling und trocken. Während der ersten Stufe werden die Wafer oder Masken in den Wäscher geladen. Der Wäscher beginnt dann den Prozess mit einer Kombination aus horizontalen und kreisförmigen Waschbewegungen. Dadurch wird eine Waschwirkung erzeugt, die bei der Entfernung von Partikeln und Verunreinigungen von der Wafer- oder Maskenoberfläche sehr wirksam ist. Darüber hinaus wird ein Hochdrucksprühgerät verwendet, um den Wafern und Masken desionisiertes Wasser zuzuführen, um die Reinigungswirkung weiter zu verbessern. Nach Abschluss des Waschvorgangs wird die zweite Stufe der SSEC 3302 eingeleitet. Dies ist der Trocknungsprozess. Die Wafer und Masken werden auf eine Trocknungsplattform bewegt und Trocknungsgas durch das System gedrückt. Das Trocknungsgas verdampft alle verbleibenden Wassermoleküle aus Wafern oder Masken, um Feuchtigkeit zu entfernen und sie sauber und einsatzbereit zu lassen. 3302 ist entworfen, um die höchsten Standards der Leistung und der Sicherheit zu erfüllen. Es enthält eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen wie eine Niederspannungsversorgung und isolierte Teile zum Schutz vor elektrischen Gefahren. Die Waschmechanismen umfassen auch eine Vakuum-Assistenzeinheit, um sicherzustellen, dass Partikel und Verunreinigungen während der Reinigung effektiv entfernt werden. Darüber hinaus weist die SSEC 3302 auch eine 6-achsige Sensormaschine auf, die die Bewegungen und Orientierung des Wäschers im Betrieb verfolgt. Auf diese Weise können die Wafer und Masken sicher und präzise gewaschen werden, was jedes Mal ein optimales Ergebnis gewährleistet. 3302 scrubber ist ein unschätzbares Werkzeug für die Halbleiterherstellung. Es ist robuste Wasch- und Trocknungsprozesse sind hocheffizient und effektiv zur Entfernung von Partikeln und Verunreinigungen aus Wafern und Masken. Darüber hinaus sind die umfassenden Sicherheitsmerkmale der SSEC 3302 die ideale Wahl für jede Reinraumumgebung.