Gebraucht SSEC 3308 #9398829 zu verkaufen

SSEC 3308
Hersteller
SSEC
Modell
3308
ID: 9398829
Wafergröße: 8"
Coater / Developer system, 8".
SSEC 3308 ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der im Halbleiterverfahren eingesetzt wird. Es ist für verschiedene Nasswasch- und Reinigungsvorgänge auf polierten und entarbeiteten Oberflächen des Wafers konzipiert. 3308 wird verwendet, um sicherzustellen, dass die Oberflächen des Wafers frei von Partikeln und Verunreinigungen für eine optimale Verarbeitung sind. SSEC 3308 hat zwei Hauptkomponenten: den Hauptwäscher und den Eimer. Der Hauptwäscher besteht aus zwei 8 „Vakuum-Aluminiumwäscher und zwei 6“ -Wäscher. Dieser Wäscher ist direkt über den Wafer montiert und hat eine Kapazität von 0,8 Gallonen. Der Eimer ist eine 4-Gallonen-Edelstahlschale. Dieser Eimer dient zur Erfassung von Partikelschutt, der während des Waschvorgangs entfernt wird. Die Maschine ist in der Lage, Wafer bis zu 8 Zoll Durchmesser zu waschen und verfügt über ein 300 Watt Heizelement. Es ist mit digitalen Temperaturreglern ausgestattet, die eine präzise Temperaturanpassung ermöglichen. Die Waferoberfläche wird mit einem gebürsteten Waschvorgang gründlich gereinigt und anschließend mit einem programmierbaren Sprühventil gespült. Weitere Funktionen sind digitale Timer und Fußschalter Steuerung. Um optimale Reinigungsergebnisse zu erzielen, ist 3308 mit einer speziellen Wasserrecyclingausrüstung ausgelegt. Dieses System besteht aus vier voneinander getrennten Fächern, um eine schnelle und effiziente Reinigung sowohl der Oberflächen des Wafers als auch der Maske zu ermöglichen. Das Wasser wird durch einen verstellbaren Sprühkrümmer und Filter zurückgeführt, um sicherzustellen, dass die Reinigungsumgebung schadstofffrei ist. SSEC 3308 ist zuverlässig und einfach zu bedienen, so dass es für jeden Wafer- und Maskenwäschevorgang geeignet ist. Es ist auch kostengünstig, da die Recycling-Einheit und Filtermaschine Wasserverlust verhindern und den Einsatz der Vorrichtung optimieren. Schließlich helfen die einstellbaren Temperatur- und Timer-Funktionen Anwendern, eine optimale Reinigungsumgebung für verschiedene Arten von Wafern und Masken zu schaffen.
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