Gebraucht SSEC M200 #293768133 zu verkaufen

SSEC M200 ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der in der Halbleiterherstellung zum Reinigen von Wafern und Masken von eventuellen Restpartikeln am Ende des Halbleiterherstellungszyklus verwendet wird. Diese Art von Wäscher ist ein leistungsfähiges, kompaktes Reinigungssystem, das in der Lage ist, sehr präzise Reinigungs- und Entfettungsoperationen durchzuführen. M200 Wäscher verwendet einen automatisierten Prozess, um die Wafer- und Maskenoberflächen zu reinigen und gründlich zu entfetten. Sie besteht aus einer Entfettungs-/Feuchtungskammer, einer Waschkammer und einer Trockenkammer, die alle exakt darauf ausgelegt sind, die Wirksamkeit des Reinigungsprozesses zu maximieren. In der Entfettungs-/Feuchtungskammer werden Wafer und Maske einem Entfettungsmittel ausgesetzt, um eventuell auf der Wafer- oder Maskenoberfläche festsitzende Partikel zu entfernen. Anschließend wird das Entfettungsmittel von dem Wafer und der Maske abgezogen, wobei eine saubere und entfettete Oberfläche verbleibt. In der Waschkammer werden die Wafer- und Maskenoberflächen mit einem Bürstenpaar geschrubbt. Diese Bürsten weisen weiche Borsten auf, die mikrogroße Partikel oder Verunreinigungen von der Wafer- und Maskenoberfläche vernachlässigen. Der Waschvorgang wird automatisch und mit großer Präzision durchgeführt, um sicherzustellen, dass nach Beendigung des Prozesses keine Partikel auf der Oberfläche des Wafers und der Maske verbleiben. Schließlich werden in der Trockenkammer der frisch gewaschene Wafer und die Maske mit einem Heißluftstrom abgetrocknet, so daß eventuell verbleibende Feuchtigkeit schnell entfernt wird und Wafer und Maske zur Weiterverarbeitung bereit sind. SSEC M200 scrubber ist eine äußerst zuverlässige und präzise Maschine, die sicherstellt, dass Wafer und Masken perfekt sauber und frei von Verunreinigungen oder Rückständen jeglicher Art sind. Es ist eine gute Wahl für jede Halbleiterproduktionsanlage, die eine zuverlässige, präzise und effiziente Waschlösung benötigt.