Gebraucht SSEC M3302 #9236399 zu verkaufen

SSEC M3302 Wafer und Maskenwäscher ist eine Präzisionsausrüstung zum Reinigen und Waschen von Wafern und Photomasken, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden. Es ist so konzipiert, dass es gleichzeitig mit erhöhten Durchsätzen und minimierten Abriebverlusten eine hohe Waschleistung bietet. SSEC M 3302 Wafer und Maskenwäscher verfügt über ein industrielles All-in-One-Design mit modernster Technologie, das den Anforderungen des heutigen Halbleitermarktes gerecht wird. Es ist mit vier Schrubbmodulen ausgestattet, die jeweils drei Schrubber mit einstellbaren Geschwindigkeiten und Funktionen aufweisen, die eine breite Palette von Schrubbgeschwindigkeiten und -mustern ermöglichen. Es verfügt auch über einen programmierbaren Scheuerkassettenkern, der eine schnelle Rüstzeit, eine präzise Steuerung und eine hohe Scheuereffizienz ermöglicht. Zu den Hauptkomponenten von M3302 Wafer und Maskenwäscher gehören eine Staub- und Partikelentfernungseinheit, eine Waschstation, eine Konzentratausrüstung, ein Konzentratmanagementsystem, eine Fotomaskenschutzeinheit und eine automatische Wafer-Handhabungsmaschine. Die Staub- und Partikelentfernungsanlage bietet Filterung von Partikeln bis zu 0,003 Mikron Größe, um sicherzustellen, dass alle unerwünschten Abfälle vor dem Waschen entfernt werden. Die Waschstation besteht aus drei Waschköpfen, die jederzeit bis zu 35 Wafer schrubben können. Zusätzlich kann der Bürstendruck eingestellt werden, um eine gleichbleibende Waschkonsistenz zu gewährleisten. Das Konzentratlieferwerkzeug ist sowohl präzise als auch zuverlässig ausgelegt. Es ist mit einer Vielzahl von Ultraschallkonzentraten ausgestattet, die eine hervorragende Reinigungsleistung bieten, unabhängig vom Wafer- oder Photomaskenmaterial, ohne Abfall oder Kontamination des Substrats. Darüber hinaus sorgt das Konzentratmanagementmodell dafür, dass für jede einzelne Anwendung die richtige Menge an Konzentrat geliefert wird. Die Photomasken-Schutzausrüstung sorgt dafür, dass Fremdstoffe oder Stabpartikel während des Waschvorgangs durch ein elektromagnetisches Abschirmverfahren vermieden werden, das die Photomaske beim Waschen schützt. Schließlich bietet das automatisierte Wafer-Handling-System einen erhöhten Durchsatz und Zuverlässigkeit und minimiert das Risiko von Waferkratzern, die bei der manuellen Handhabung auftreten können. Es ist wichtig zu beachten, dass M 3302 Wafer und Maskenwäscher in einer Reinraumumgebung behandelt werden müssen, um höchste Sauberkeit und Kontaminationsverhütung zu gewährleisten. Außerdem muss die Einheit regelmäßig gewartet werden, da eine unsachgemäße Reinigung zu einer Verringerung der Waschleistung führen kann.