Gebraucht SSEC M3302 #9380489 zu verkaufen

SSEC M3302 ist ein leistungsstarker Wafer- und Maskenwäscher zur Entfernung von Partikeln und Verunreinigungen aus lithographischen Masken und Waferoberflächen. Seine hohe Leistung geht auf sein effizientes Design und den Einsatz fortschrittlicher Technologien zurück. Sein anspruchsvolles Design vereint einen großen Peeling-Bereich, eine geneigte Oberfläche und eine Entwässerungsausrüstung. Die Scheuerfläche ist 35 Zentimeter im Durchmesser und 0,7 Millimeter in der Tiefe. Dadurch ergibt sich eine große Fläche zum Waschen und Entleeren, wodurch auch Partikel effektiv von der Wafer- und Maskenoberfläche entfernt werden können. Die abgeschrägte Oberfläche ist so konzipiert, dass Wasser schnell und einfach ablaufen kann, wodurch die für die Reinigung benötigte Zeit reduziert wird. SSEC M 3302 scrubber verwendet eine Kombination fortschrittlicher Technologien, um eine hohe Reinigungseffizienz zu erzielen. Der Scheuerkopf besteht aus einer Kombination von weichen und harten Materialien. Das weiche Material ist schonend auf den lithographischen Masken und Waferoberflächen, während das harte Material in der Lage ist, Partikel und Verunreinigungen effektiv zu entfernen. Der Waschkopf verwendet auch Ultraschallschwingungen, um Partikel und Verunreinigungen abzubauen und zu entfernen. Zusätzlich weist der Wäscher ein Düsensystem auf, das Waschmittel auf die zu reinigenden Oberflächen aufsprüht. Dies hilft, Partikel aufzulösen und erleichtert das Entfernen. M3302 Wäscher nutzt auch eine Kombination von Filtertechnologien. Er hat zwei Filter am Einlass und einen am Auslass des Wäschers. Die Einlassfilter entfernen Partikel und Verunreinigungen, die größer als 0,5 µm im Durchmesser sind. Der Austrittsfilter sorgt dafür, dass von der Oberfläche abgetragene Partikel vollständig aus der Anlage entfernt werden. Insgesamt ist der M 3302 Scrubber als effiziente und effektive Maschine zur Reinigung von Wafer- und Maskenoberflächen konzipiert. Die Kombination von Technologien trägt dazu bei, dass Partikel und Verunreinigungen schnell und effizient entfernt werden. Der Schrubber ist auch so konzipiert, dass er benutzerfreundlich und einfach zu bedienen ist und somit eine ausgezeichnete Wahl für alle Arten von lithographischen Masken- und Waferreinigungsanwendungen ist.