Gebraucht SSEC M3303 #9188395 zu verkaufen

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Hersteller
SSEC
Modell
M3303
ID: 9188395
Dry In / Out immersion & single wafer solvent processor Cassette system: 60" Wide x 76" Deep x 105" High Double sided Minor finished Stainless steel series 3 frame construction Removable and hinged interlocked panels PC Based control system with ASCII file formal Message log file With time / Date stamping: Year 2000 compliant Windows 7 user interface with device network configuration E-Modules with digital signal processors Flash memory loaded from PC EMO Chain indication on PC screen & EMO module Drivers with brushless servo motors or stepper Motors with positional encoders with real time motor control SEMI F-47 Power compliant SEMI S23 Green compliant with monitoring power Chemical consumption SEMI S2-0706E Safely compliant SEMI S8-0705 Ergonomic compliant Includes: Fatal error software Safety clean with pre-defined recipe Full PC with flat panel displays Keyboard, hard drive RAV CD/DVD ROM for log files SSLC Documentation Integration of WD provided bar code scanner CE Marked.
SSEC M3303 ist ein leistungsstarker Wafer- und Maskenwäscher, der in der Halbleiterindustrie weit verbreitet ist. Das von SSEC entwickelte Unternehmen verfügt über eine breite Palette von Reinigungsplattformen mit überlegener Durchsatzkapazität und Produktionseffizienz. SSEC M 3303 ist eine anspruchsvolle Ausrüstung zur Reinigung von Siliziumscheiben nach außergewöhnlich hohen Standards und ist bekannt für seinen Erfolg bei der Bereitstellung überlegener Sauberkeit bei minimaler Ausfallzeit. M3303 ermöglicht eine Hochgeschwindigkeits-Nasswäsche, die die Entfernung etwaiger Restpartikel auf der Waferoberfläche vor dem Ätzen und/oder der lithographischen Verarbeitung ermöglicht. Dies geschieht durch Delugieren des Wafers mit sauberen prozessfähigen Flüssigkeiten, die einen Waschschaum bilden, so dass Partikel wie Staub schnell und effektiv von der Waferoberfläche abgehoben werden. Eine Reihe von Mikroturbinen werden verwendet, um den Waschkolben zu verarbeiten, schnell genug zu spinnen, um unerwünschte Partikel aus dem Wafer zu rühren und zu entfernen, ohne die fragile Siliziumstruktur selbst zu beschädigen. M 3303 verfügt zudem über eine erweiterte Maskierungsfunktion, die eine präzise Reinigung des Wafers ermöglicht. Es verfügt über ein einzigartiges Überlaufsystem, das Prozessflüssigkeiten davon abhalten soll, in die sicheren Bereiche des Arbeitsraums einzudringen und die installierte Elektronik zu kontaminieren. Diese Einheit bedeutet, dass SSEC M3303 mit empfindlichen Lithographie-Prozesskomponenten verwendet werden kann, und ist daher die bevorzugte Reinigungsmaschine für Anwendungen wie Rückseitenlithographie von CMOS-Bildern, Mehrzwecklithographie und Waferentbonden. Die Kombination aus Geschwindigkeit, Genauigkeit und Umweltsicherheit machen SSEC M 3303 zur perfekten Lösung für eine Vielzahl von Waferbehandlungen. Neben seiner kompakten Größe verfügt es über eine außergewöhnlich geringe Geräuschleistung, die es für den Einsatz in Unternehmen mit gemeinsamen Arbeitsräumen geeignet macht. Darüber hinaus ist der geringe Stromverbrauch ideal für großtechnische Lösungen und mobile Lösungen wie Labor- oder Vor-Ort-Anwendungen. M3303 ist ein ausgezeichneter Allrounder, der Ergebnisse liefert, die Industriestandards übertreffen, in einer funktionalen Maschine, die einfach zu bedienen ist und für eine Vielzahl von Reinigungsanwendungen geeignet ist.
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