Gebraucht SSEC M3303 #9188395 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9188395
Dry In / Out immersion & single wafer solvent processor
Cassette system: 60" Wide x 76" Deep x 105" High
Double sided
Minor finished
Stainless steel series 3 frame construction
Removable and hinged interlocked panels
PC Based control system with ASCII file formal
Message log file
With time / Date stamping: Year 2000 compliant
Windows 7 user interface with device network configuration
E-Modules with digital signal processors
Flash memory loaded from PC
EMO Chain indication on PC screen & EMO module
Drivers with brushless servo motors or stepper
Motors with positional encoders with real time motor control
SEMI F-47 Power compliant
SEMI S23 Green compliant with monitoring power
Chemical consumption
SEMI S2-0706E Safely compliant
SEMI S8-0705 Ergonomic compliant
Includes:
Fatal error software
Safety clean with pre-defined recipe
Full PC with flat panel displays
Keyboard, hard drive
RAV CD/DVD ROM for log files
SSLC Documentation
Integration of WD provided bar code scanner
CE Marked.
SSEC M3303 ist ein leistungsstarker Wafer- und Maskenwäscher, der in der Halbleiterindustrie weit verbreitet ist. Das von SSEC entwickelte Unternehmen verfügt über eine breite Palette von Reinigungsplattformen mit überlegener Durchsatzkapazität und Produktionseffizienz. SSEC M 3303 ist eine anspruchsvolle Ausrüstung zur Reinigung von Siliziumscheiben nach außergewöhnlich hohen Standards und ist bekannt für seinen Erfolg bei der Bereitstellung überlegener Sauberkeit bei minimaler Ausfallzeit. M3303 ermöglicht eine Hochgeschwindigkeits-Nasswäsche, die die Entfernung etwaiger Restpartikel auf der Waferoberfläche vor dem Ätzen und/oder der lithographischen Verarbeitung ermöglicht. Dies geschieht durch Delugieren des Wafers mit sauberen prozessfähigen Flüssigkeiten, die einen Waschschaum bilden, so dass Partikel wie Staub schnell und effektiv von der Waferoberfläche abgehoben werden. Eine Reihe von Mikroturbinen werden verwendet, um den Waschkolben zu verarbeiten, schnell genug zu spinnen, um unerwünschte Partikel aus dem Wafer zu rühren und zu entfernen, ohne die fragile Siliziumstruktur selbst zu beschädigen. M 3303 verfügt zudem über eine erweiterte Maskierungsfunktion, die eine präzise Reinigung des Wafers ermöglicht. Es verfügt über ein einzigartiges Überlaufsystem, das Prozessflüssigkeiten davon abhalten soll, in die sicheren Bereiche des Arbeitsraums einzudringen und die installierte Elektronik zu kontaminieren. Diese Einheit bedeutet, dass SSEC M3303 mit empfindlichen Lithographie-Prozesskomponenten verwendet werden kann, und ist daher die bevorzugte Reinigungsmaschine für Anwendungen wie Rückseitenlithographie von CMOS-Bildern, Mehrzwecklithographie und Waferentbonden. Die Kombination aus Geschwindigkeit, Genauigkeit und Umweltsicherheit machen SSEC M 3303 zur perfekten Lösung für eine Vielzahl von Waferbehandlungen. Neben seiner kompakten Größe verfügt es über eine außergewöhnlich geringe Geräuschleistung, die es für den Einsatz in Unternehmen mit gemeinsamen Arbeitsräumen geeignet macht. Darüber hinaus ist der geringe Stromverbrauch ideal für großtechnische Lösungen und mobile Lösungen wie Labor- oder Vor-Ort-Anwendungen. M3303 ist ein ausgezeichneter Allrounder, der Ergebnisse liefert, die Industriestandards übertreffen, in einer funktionalen Maschine, die einfach zu bedienen ist und für eine Vielzahl von Reinigungsanwendungen geeignet ist.
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