Gebraucht SSEC M3307 #9203303 zu verkaufen

SSEC M3307 ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der entwickelt wurde, um eine effektive und effiziente Reinigung von bearbeiteten Wafern und Masken zu gewährleisten. Die Ausrüstung ist in der Lage, eine breite Palette von Wafertypen zu reinigen, einschließlich Silicon-on-Insulator (SOI), STI, DICE und CMP-Wafer. Das System verwendet Hochgeschwindigkeits-Drehbürsten, um jede Kante des Wafers oder der Maske zu reinigen und gleichzeitig Schmutz und Partikel von beiden Seiten des Geräts mit seinem hocheffizienten Waschprozess zu entfernen. Der Schrubber ist mit zwei rotierenden Bürsten und zwei statischen Bürsten ausgestattet, wodurch eine höhere Wafer-Reinigungsgeschwindigkeit mit reduzierten Hartpartikelkratzen erzeugt wird. Auch kann der Druckauftrag auf das Substrat entsprechend den unterschiedlichen Reinigungsbedürfnissen eingestellt werden. Das Gerät ist auch mit einer patentierten Filtermaschine ausgestattet, die den Reinigungsprozess durch die Beseitigung von Mikronenpartikeln verbessert. Dieses hocheffiziente Filterwerkzeug fängt Partikel ab der Größe 13 μ m ab und bietet eine hervorragende Wafer- oder Maskenwäsche und eine effektive Partikelentfernung. Es ermöglicht auch den Reinigungsprozess ohne Medien- oder Chemikalienbedarf. M3307 ist für einfache Bedienung und Wartung ausgelegt. Die Anlage umfasst einen einfachen Steuerungskabiner zur vollständigen Kontrolle und Überwachung der Reinigungsparameter. Dies gewährleistet einen sicheren Betrieb und ermöglicht schnelle und einfache Anpassungen. Der Wafer- und Maskenwäscher ist mit einer breiten Palette von Wafergrößen von 50mm bis 450mm Durchmesser kompatibel. Es ist auch in der Lage, verschiedene Wafertypen zu verarbeiten, einschließlich regelmäßiger Testscheiben, Silizium, Polyimid und Quarzscheiben. Das Modell ermöglicht auch geschichtetes oder geschichtetes/Testwafer-Scrubbing. SSEC M3307 Wafer und Maske Scrubber ist für den Einsatz in Fabs konzipiert, um saubere und partikelfreie Wafer und Masken für den Betrieb mit hoher Geschwindigkeit und Effizienz zu gewährleisten. Es ist eine ideale Ausrüstung für den Einsatz in der wachsenden Halbleiter- und Elektronikindustrie. Mit seiner fortschrittlichen Technologie und Funktionen bietet es eine effiziente, kostengünstige und zuverlässige Reinigungslösung für eine breite Palette von Substraten.