Gebraucht SVG 8020 #58194 zu verkaufen

SVG 8020 ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der eine effiziente und wiederholbare Reinigung von Halbleiter- und photonikbezogenen Bauelementen ermöglicht. Es verwendet eine Kombination von Hochgeschwindigkeitsstrahlen aus Luft und gereinigtem Wasser, integriert mit einer Waschbürste, um unerwünschte Partikel abzuräumen. Die Waschbürste kann für eine breite Palette von Wafer- und Maskengrößen konfiguriert werden, und die Luft- und Wasserstrahlen sind einstellbar, um eine maßgeschneiderte Reinigungslösung zu ermöglichen. 8020 ist ein automatisiertes System, ausgestattet mit einer Reihe von Sensoren, die den Reinigungsprozess kontinuierlich überwachen. Diese Sensoren geben dem Bediener in Echtzeit Rückmeldung über verschiedene Aspekte des Reinigungszyklus, einschließlich Dauer, Wasser- und Luftdruck, Waschintensität und Schadstoffabfuhr. Diese Daten erhalten eine grafische Darstellung in Form eines Bildschirms, wodurch der Bediener den Reinigungsprozess feinabstimmen kann. Die Luftstrahlen von SVG 8020 sind in der Lage, eine Vielzahl von Partikeln aus Halbleiterscheiben wie Siliziumoxiden, Metallen, Kohlenwasserstoffen und Fluorkohlenwasserstoffen zu entfernen. Die Waschbürste ist schonend und dennoch wirksam ausgebildet, um an Partikeln an der Stelle festzuhalten, an der sie sich normalerweise auf dem Wafer oder der Maske niedergelassen hätten. Die Kombination aus Hochgeschwindigkeitsstrahlen und Waschbürste ermöglicht eine extreme Partikelentfernung und macht 8020 zu einem leistungsstarken Werkzeug für die Halbleiterreinigung. SVG 8020 ist mit verschiedenen Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, die sowohl den Bediener als auch die Ausrüstung schützen. Dazu gehören ein Wasserabsperrventil sowie ein Not-Aus-Knopf. Das System ist auch so konzipiert, dass jede sekundäre Verschmutzung des Wafers oder der Maske verhindert wird, indem ein geschlossenes Filtersystem verwendet wird, das Partikel und Trümmer aus dem Waschprozess erfasst und entfernt. Insgesamt ist 8020 ein effizienter und wiederholbarer Wafer- und Maskenwäscher, der Partikel mit höchster Genauigkeit entfernen kann. Dank der automatisierten Prozess- und Echtzeit-Daten-Feedback-Funktionen kann der Bediener den Reinigungsprozess feinjustieren und sicherstellen, dass alle Komponenten eine optimale Reinigung erhalten. Die Sicherheitsmerkmale und die inhärenten Möglichkeiten zur Vermeidung von Kontaminationen sorgen zudem für mehr Sicherheit.