Gebraucht SVG 8600 #293586853 zu verkaufen

Hersteller
SVG
Modell
8600
ID: 293586853
Coater / Developer system.
SVG 8600 ist ein Wafer- und Maskenwäscher zur Reinigung von Oberflächen von Wafern und Masken, die in der Photolithographie verwendet werden. Es ist eine automatisierte Ausrüstung, die eine sanfte abrasive Waschbewegung verwendet, um Verunreinigungen von den empfindlichen Oberflächen zu entfernen. 8600 ist ein automatisiertes, benutzerfreundliches System, das den Prozess des Waschens von Wafern und Masken optimiert. Es ist mit einem programmierbaren Logik-Controller für die präzise Bewegung von Wäscherelementen, einschließlich der optimalen Geschwindigkeit und Winkel für das Schrubben ausgestattet. Das Gerät verfügt außerdem über eine einstellbare Temperaturregelung, um Wafer- und Maskenschäden durch Hitze zu vermeiden. Der Waschprozess von SVG 8600 erfolgt typischerweise in einer Lösung von Isopropylalkohol (IPA) und entionisiertem Wasser, um Verunreinigungen wie Staub, Partikel oder organische Filme zu lockern und zu entlocken. Es ist in der Lage, sowohl flache als auch gebogene Oberflächen mit ultraweichen, hochwertigen Nylon-Webpads zu schrubben. Der Benutzer hat die Möglichkeit, die Wäscheraktion individuell anzupassen, um die Anforderungen eines bestimmten Prozesses zu erfüllen, einschließlich Schrubbrichtung, Geschwindigkeit und Druck. 8600 umfasst auch eine separate, automatisierte Abwassersammel- und Filtrationsmaschine, die die gewaschenen Verunreinigungen sammelt und herausfiltert. Das Abwasser wird dann recycelt und wiederverwendet, um Abfälle zu minimieren und Ressourcen zu schonen. SVG 8600 verfügt über eine große benutzerfreundliche grafische Oberfläche, die für eine einfache Bedienung ausgelegt ist. Es verfügt auch über eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, einschließlich großer Sicherheitskäfige, Mikroschalter und Lichtgitterschutz, die alle entworfen sind, um den Bediener während des Betriebs sicher zu halten, sowie Schutz vor Luftkontamination. 8600 ist ideal für die Entfernung von Verunreinigungen aus Photomasken, Retikeln, Substraten und mehr, um sicherzustellen, dass das höchste Maß an Sauberkeit für den Beginn eines Photolithographie-Prozesses erreicht wird. Es ist ein zuverlässiges und kostengünstiges Werkzeug, das effiziente, wiederholbare und konsistente Waschprozesse gewährleistet.
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