Gebraucht SVG 8600 #293652301 zu verkaufen

Hersteller
SVG
Modell
8600
ID: 293652301
Coater / Developer system.
SVG 8600 ist ein Wafer- und Maskenwäscher zur Reinigung von Wafern und Masken während Halbleiterprozessen. Es wird von einem schwingungsarmen Motor mit hohem Drehmoment angetrieben und enthält eine Reihe von separaten Modulen, einschließlich eines Edelstahl-Reinigungstanks, eines Ultraschallwandlerarrays und eines hin- und hergehenden Reinigungsarms. Der Reinigungstank dient als Hauptbestandteil der chemischen Reinigung und besteht aus einer automatisierten chemischen Einspritzeinrichtung und einem chemischen Vorratsbehälter. Dieses System ermöglicht es, die Chemikalie der Wahl in den Reinigungsbehälter zu geben, um sicherzustellen, dass die chemisch unterstützte Reinigung während des Prozesses durchgeführt wird. Zusätzlich kann der Tank Wafer bis 300mm Größe aufnehmen. Das Ultraschallwandlerarray dient als Hauptbestandteil der Wascheinheit. Bei Aktivierung erzeugen die Wandler einen Strom winziger, hochfrequenter Schwingungen, die dann durch strahlgefüllte Reinigungsflüssigkeit projiziert werden. Diese Flüssigkeit hilft Schmutz und andere Stoffe von der Waferoberfläche zu entfernen, so dass es sauber und bereit für nachfolgende Prozesse. Schließlich wird mit dem hin- und hergehenden Reinigungsarm der Wafer über den Tank hin- und herbewegt, um eine gleichmäßige flächige Reinigung zu gewährleisten. Dieser Arm kann mehrere Wafer von bis zu 300mm Größe tragen und kann während des Prozesses bis zu 50mm fahren. Zusammenfassend ist 8600 Wafer und Maskenwäscher eine hocheffiziente Maschine, die mehrere interaktive Module zum Entfernen von Verunreinigungen aus Wafern und Masken verwendet. Der Wäscher wird von einem schwingungsarmen Motor mit hohem Drehmoment angetrieben und verfügt über eine automatisierte chemische Einspritzmaschine, ein Ultraschallwandlerarray und einen hin- und hergehenden Reinigungsarm. Im Einsatz arbeiten diese Komponenten zusammen, um die Wafer- und Maskenoberflächen zu reinigen, was eine schnelle und effiziente Herstellung von Halbleiterprozessen ermöglicht.
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