Gebraucht SVG 8600 #9267068 zu verkaufen

SVG 8600 ist ein fortschrittlicher Wafer- und Maskenwäscher, der zwei Wafer gleichzeitig schrubben kann. Entwickelt von der SVS-VISTEK GmbH mit Expertise in der Hochvakuumtechnik, bietet 8600 zuverlässige Waschmöglichkeiten für Kunden in der Halbleiter- und Photomasken-Produktionsindustrie. Dieser Wäscher ist ideal für die Reinigung von Retikeln, Photomasken und Waferoberflächen, die maximale Reinigungsleistung erfordern. SVG 8600 ist entworfen, um mehrere Arten von Operationsplatten einschließlich Quarz, SiC, Edelstahl oder Keramik zu schrubben. Es bietet zwei separate Waschkammern und sechs Waschköpfe mit weichen (Faser-) und harten (Metall-) Bürsten für maximale Waschleistung. Die Bürstenköpfe sind für spezifische Scheueranforderungen einstellbar und können für verschiedene Scheuertiefen manuell eingestellt werden. Der Schrubber ist mit KF-Flanschöffnungen und einer abnehmbaren Deckplatte zum einfachen Be- und Entladen der Proben ausgestattet. Der Wäscher ist weiter mit einer integrierten Audio/visuellen Alarmeinrichtung ausgestattet, die den Bediener warnt, wenn eine Wäschewirkung erforderlich ist. Ein digitales Display zeigt den Betriebszustand zur einfachen Fehlersuche an. Der Wäscher verfügt auch über ein Filtersystem, das empfindliche Komponenten vor Flüssigkeitskontamination schützt. Diese Filtereinheit wurde entwickelt, um normale Nasschemikalien zu ersetzen und gleichzeitig die Sicherheit und Effizienz zu verbessern. Schließlich ist der Wäscher mit einer Temperaturregelmaschine ausgestattet, die auf einen Bereich von -20 ° C bis + 60 ° C eingestellt werden kann, um präzise Waschtemperaturen zu erhalten. Die fortschrittlichen Technologien von 8600 ermöglichen es dem Wäscher, qualitativ hochwertige und zuverlässige Reinigungsergebnisse zu erzielen. Der Wäscher sorgt für einen schnellen und präzisen Betrieb mit minimalem Waferverlust und ausgezeichneter Wiederholbarkeit. Die Waschmöglichkeiten des SVG 8600 machen es zu einer idealen Wahl für Reinigungsanwendungen in der Halbleiter- und Photomasken-Produktionsindustrie.