Gebraucht SVG 8600 #9411945 zu verkaufen

SVG 8600 ist ein Wafer- und Maskenwäscher von Semi-Tek, einem führenden Hersteller von Halbleiterprozessanlagen. Dieser Wäscher soll eine überlegene Reinigung von Oberflächenverunreinigungen, wie Photoresist, auf Halbleiterscheiben und Masken ermöglichen. Sein Reinigungsprozess ist vollautomatisiert und verwendet Sauerstoffradikale, um ein gründlich sauberes Substrat zu gewährleisten. 8600 ist eine vielseitige und zuverlässige Reinigungsausrüstung. Es verwendet ein Sauerstoffvakuum, um prozeßgebildete Reste zu entfernen, ohne die Substrat- und Maskeneigenschaften zu verändern. Das System kann Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll und Masken mit einer Größe von bis zu 10 Zoll handhaben. Darüber hinaus ist es mit einer integrierten Wäschereinheit ausgestattet, um Partikel und Verunreinigungen von der Oberfläche zu entfernen. SVG 8600 nutzt einen zweistufigen Reinigungszyklus. Die erste Stufe verwendet einen Sauerstoffdampf, um organische Verbindungen von der Oberfläche zu entfernen. Dieser Dampf wird in einer abgedichteten Reaktionskammer erzeugt und durch den Wafer oder die Maske gefördert. Der Dampf reagiert dann mit den organischen Verbindungen auf der Oberfläche, bindet sich an sie und zerlegt sie in Sauerstoffreste. In der zweiten Stufe des Reinigungszyklus binden sich die Sauerstoffradikale an die Partikel- und Verunreinigungsoberflächen an und oxidieren diese. Nach der Oxidation werden die Gase und Partikel durch das Vakuum von der Oberfläche abgezogen. Dieser Vorgang wird mehrfach wiederholt und soll sauberere Substrate und Masken liefern als typische Nasswäscheprozesse. Die Maschine wird von einer PC-basierten Software-Suite gesteuert und überwacht. Diese Suite bietet Unterstützung für die Fehlerdiagnose und eine Bibliothek mit gängigen Fehlern und Lösungen, die den Werkzeugbediener durch den Fehlerbehebungsprozess führen. Es bietet auch eine Echtzeit-Berichterstattung über Asset-Parameter und kann mit Prozessmanagementsoftware verbunden werden. Das Modell ist auch vollständig anpassbar. Der Wäschekopf kann sowohl in x- als auch in y-Richtung bewegt werden, um verschiedene Formen und Größen von Substraten reinigen zu können. Zusätzlich können Schrittgeschwindigkeit und Verweildauer angepasst werden, damit der Anwender die Reinigungsparameter an bestimmte Anforderungen anpassen kann. Das Gerät ist auch mit einem Ionisator ausgestattet, um statische Elektrizität aus dem Substrat oder der Maske vor der Reinigung zu entfernen. Abschließend ist 8600 ein automatisierter Wafer & Maskenwäscher, der für überlegene Reinigung und Oberflächendekontamination entwickelt wurde. Es ist vielseitig einsetzbar und bietet einen vollständig anpassbaren Reinigungszyklus und eine Diagnosesoftware-Suite zur Fehlerbehebung. Es ist zuverlässig, effektiv und sorgt jedes Mal für ein sauberes Substrat und Maske.