Gebraucht SVG 8620 SSC / 8636 HPO #9366489 zu verkaufen

SVG 8620 SSC/8636 HPO Wafer & Maskenwäscher ist eine Präzisionsreinigungsanlage, die entwickelt wurde, um die Filmleistung auf Retikeln wiederherzustellen und physikalische Fehler auf Wafern zu beheben. Dieses System eignet sich zur Entfernung von Schutt und Verunreinigungen von jeder Oberfläche, einschließlich Photomasken, Wafern, Resists, Halterungen oder Polierkissen. 8620 SSC/8636 HPO-Einheit verfügt über lineare und drehbare Bühnenbewegungen, geregelten Luftdruck und mehrere Düsenkonfigurationen. Dies ermöglicht ein wiederholbares und kontrollierbares Schrubben aller Oberflächentypen. Seine robuste und einstellbare Art ermöglicht ein anpassbares Reinigungserlebnis sowie schnelle Zykluszeiten. Um optimale Ergebnisse zu erzielen, ist die Maschine mit zwei Scheuerzonen ausgestattet. Dies ermöglicht zusätzliche Waschparameter, wie unterschiedliche Waschdruckwerte oder doppelte Waschraten. Diese Anordnung gibt dem Werkzeug die Möglichkeit, alle Arten von Oberflächen in einem Durchgang zu verarbeiten. Darüber hinaus ermöglichen die Dual-Scrub-Zonen den Anwendern, das Prozessrezept basierend auf verschiedenen Reticle-Designs zu optimieren. Der Reinigungsprozess wird durch Stickstoffgas angetrieben, was zu deutlich höheren Eindringungen in das Zielgebiet führt als luftgetriebene Systeme. Seine strenge Kontrolle über Gasdruck, Prozessdruck und Düsendesign ermöglicht eine breite Palette von Waschprozessen. Dazu gehört beispielsweise die Fähigkeit, feine Liniendrucke zu verarbeiten. SVG 8620 SSC/8636 HPO Wafer & Maskenwäscher ist eine wirtschaftliche Lösung, die verschiedene Vorteile bietet. Seine fortschrittlichen Funktionen bieten überlegene Reinigungsleistung, verbesserte Zykluszeiten und niedrige Scheuerlebensdauer Kosten. Darüber hinaus kann das Gut sehr komplizierte und empfindliche Teile wie Planarisieren und Strukturieren von Resists handhaben, wodurch die Oberflächenmetriken der Substrate verbessert werden. Dies wiederum erhöht die Gesamtausbeute des Produkts. Dank seines flexiblen Designs toleriert 8620 SSC/8636 HPO Änderungen in Design, Netzform, Größe und Substratanforderungen ohne zusätzliche Anpassungen. Damit eignet sich das Modell für Anwendungen in unterschiedlichen Industrie- und Forschungseinstellungen wie der Halbleiterindustrie oder Forschungslabors. Insgesamt ist SVG 8620 SSC/8636 HPO Wafer & Maskenwäscher eine kostengünstige und zuverlässige Lösung für eine effiziente Reinigung und Waschung von Retikeln und verschiedenen Substraten. Seine erweiterten Funktionen ermöglichen eine wiederholbare und optimierte Reinigung bei hohem Durchsatz und geringen Kosten.