Gebraucht TEKNEK CM40600UP1223 #142278 zu verkaufen

TEKNEK CM40600UP1223 ist ein automatisierter Wafer- und Maskenwäscher zur Herstellung von Halbleitern. Dieser Wäscher ist für spezielle Anwendungen konzipiert, die eine möglichst präzise Entfernung von Verunreinigungen erfordern, einschließlich Partikelverunreinigungen, Partikeln aus dem Abreißprozess sowie allgemeine oxid- und oxidbedingte Abscheidungen von Halbleiterwafer- und Photomaskenoberflächen. CM40600UP1223 ist mit fortschrittlichen Reinigungstechnologien wie Ultraschallwäsche und Spin-Scrubbing mit verstellbarem Duschkopf ausgestattet, um höchste Sauberkeit zu gewährleisten. Es verfügt über einen einzigartigen, automatisierten, sich bewegenden Scheuerkopfmechanismus ohne Berührung, der sich schnell und reibungslos um den Wafer oder die Fotomaske bewegen kann. Der Wäscher ist mit einer zweistufigen Schrubberkopfplattform aus Edelstahl aufgebaut, die mit dem Grundkörper des Wäschers verbunden ist. Ein fortschrittlicher mikroprozessorgesteuerter bürstenloser Motor ermöglicht es dem Wäscherkopf, seine Waschwirkung einzustellen, um das gewünschte Oberflächenprofil zu erreichen. TEKNEK CM40600UP1223 verfügt über eine benutzerfreundliche Benutzeroberfläche mit großer Flexibilität und einfacher Einrichtung. Es ermöglicht grundlegende und erweiterte Eingabetypen, benutzerdefinierte Benutzerprofile und intuitive Visualisierung von Scrubbing-Prozessparametern. Durch die Überwachung des Prozesses in Echtzeit kann der Wäscher erkennen, ob ungewöhnliche Muster gewaschen werden und das Waschen sofort entsprechend korrigieren. Es bietet auch zweirädrigen Schrubbmodus, der das Schrubben beschleunigt, um größere Wafer- und Photomaskenaufträge schnell durchzuführen. CM40600UP1223 ist kompatibel mit verschiedenen Tanks, darunter hochreines Wasser, verdünnte Säure und JEDEC-Standardreinigungslösungen. Es ist auch in der Lage, mit einer Vielzahl von Substraten zu arbeiten, wie Si, GaAs, Spinel und Saphir. Seine robuste Konstruktion sorgt für langfristige Zuverlässigkeit und bietet ein Maß an Flexibilität, das die Produktivität erhöht. TEKNEK CM40600UP1223 ist eine wertvolle Reinigungslösung für die Halbleiterindustrie und bietet schnelle Wafer- und Photomasken-Reinigung. Die Eigenschaften des Wäschers machen es gut geeignet für Anwendungen in Dielektrikum, Photomasken entfernen und andere Oberflächenreinigungen. Es bietet maximale Sauberkeit und höchste Oberflächenreinigungsqualität.