Gebraucht TEKNEK CM6 #194148 zu verkaufen

TEKNEK CM6 ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der proprietäre pulsierte Blasenwäsche-Technologie für überlegene Prozessergebnisse verwendet. Diese anspruchsvolle Ausrüstung ist voll automatisiert und bietet einen wiederholbaren, zuverlässigen Reinigungsprozess für eine breite Palette von Substraten. Zu den Merkmalen der CM6 gehören ein kurzer Reinigungszyklus, ein hoher Durchsatz von 70 + Wafern pro Stunde und ein minimaler Laufaufwand. Die Blasenwäschetechnologie von TEKNEK CM6 verwendet eine Reihe von kontrollierten Impulsen, um konzentrierte Mengen an Ultraschallenergie in die Flüssigkeitsreinigungslösung zu erzeugen und freizugeben. Diese Energie erzeugt kleine, präzise Blasen, die sich lösen und Partikel, Moleküle und andere Verunreinigungen von empfindlichen Oberflächen entfernen. Für jeden Reinigungszyklus werden Wafer und Masken in eine vorgegebene Reinigungslösung getaucht, die dann den Ultraschallblasen ausgesetzt wird. Das resultierende Verfahren ist substratschonend und erzeugt konsequent fehlerfreie Oberflächen. Diese Blasenreinigungstechnologie kann auf eine Vielzahl von Substraten angewendet werden - darunter Si, GaAs und Quarz. CM6 ist ein vollautomatisiertes System, das es ideal für den Betrieb in großen Mengen und Produktionslinien macht. Für neue Reinigungssitzungen - einschließlich der Auswahl entsprechender Parameter für das gegebene Substrat - ist ein minimaler Aufbau erforderlich, und Reinigungszyklen können in nur 15 Sekunden durchgeführt werden. Ein integriertes, benutzerfreundliches LCD-Bedienfeld erleichtert die Navigation durch Einrichtung und Ausführung. Die Einheit kann auch mit einem Computer zur Fernüberwachung und -steuerung verbunden sein. Neben seinem effizienten, mühelosen Prozess ist TEKNEK CM6 auch unter Berücksichtigung der Bedienersicherheit konzipiert. Es verfügt über eine integrierte Alarmmaschine zur Reaktion auf anormale Prozesszustände und kann so eingestellt werden, dass die Flüssigkeit bei Prozessleck oder gefährlichem Zustand automatisch abgeschaltet wird. Das Werkzeug verfügt außerdem über einen geschlossenen Wasserkreislauf, der das Risiko einer chemischen Exposition reduziert. Insgesamt ist CM6 ein anspruchsvoller Wafer- und Maskenwäscher, der hervorragende Prozessergebnisse bei minimalem Betriebsaufwand bietet. Seine fortschrittliche Blasenwäschetechnologie ist ideal für die Entfernung von Partikeln und Molekülen von empfindlichen Oberflächen, und sein automatisiertes Design macht es gut geeignet für eine Vielzahl von Anwendungen mit hohem Volumen. Mit seinen optimal gestalteten Prozess- und Sicherheitsmerkmalen ist TEKNEK CM6 eine ausgezeichnete Wahl für viele anspruchsvolle Projekte.