Gebraucht TEKNEK CM80600RLF3 #9180564 zu verkaufen

TEKNEK CM80600RLF3 Wafer & Mask Scrubber ist eine revolutionäre Reinigungslösung für die Herstellung von Halbleiterscheiben. Mit seiner fortschrittlichen Waschtechnologie kann es schnell und effektiv Partikel und Rückstände von Wafern und Masken entfernen. Entworfen, um in jeder Umgebung zu arbeiten, können CM80600RLF3 auch Produktionsausfallzeiten mit seinem weniger als zwei Minuten Reinigungszyklus reduzieren. TEKNEK CM80600RLF3 arbeitet mit zwei eng positionierten Heißluftstrahlen, um einen Heißluftstrom zur gleichmäßigen Partikelentfernung bereitzustellen. Die Strahlen sind hoch konfigurierbar, mit einstellbarer Düsenausrichtung und Lufttemperatur. Dadurch wird sichergestellt, dass die Heißluftstrahlen direkt auf Partikel abzielen und diese leichter zu entfernen sind. Der Wäscher verfügt auch über einen integrierten Düsenschwenker, der sich bis zu 45 Grad horizontal und 30 Grad vertikal bewegen kann, um den optimalen Reinigungswinkel zu bieten. Dank seines leistungsstarken Absaugsystems können CM80600RLF3 alle Partikel und Rückstände schnell und präzise auffangen. Das System filtert Partikel bis zu 0,2 Mikron aus und hat eine einstellbare Federgeschwindigkeit, so dass der Benutzer die Saugintensität genau steuern kann. Das Absaugsystem ist auch einstellbar, so dass Benutzer die richtige Saugleistung für jede Art von Aufgabe einstellen können. Neben der Reinigung ermöglicht TEKNEK CM80600RLF3 den Anwendern, ihre Masken nach der Reinigung schnell und präzise zu „optimieren“. Durch die Bequemlichkeit des Düsenschwenkers können Benutzer die Maskeneinstellungen in die Richtungen oben, unten, links und rechts einstellen. Es kann auch als Partikelzähler für ein- und auslaufende Wafer oder Masken dienen, was eine vollständige Rückverfolgbarkeit im Herstellungsprozess ermöglicht. CM80600RLF3 Wafer & Mask Scrubber ist effizient, zuverlässig und vielseitig. Seine fortschrittlichen Technologien machen es zu einer gewaltigen Reinigungslösung für die Herstellung von Halbleiterscheiben, und seine Skalierbarkeit ermöglicht zukünftige Upgrades bei Bedarf. Mit seinem schnellen Reinigungszyklus und der präzisen Reinigungsleistung bringt TEKNEK CM80600RLF3 sicherlich mehr Effizienz und Wirtschaftlichkeit in jede Wafer- und Maskenherstellungsanlage.