Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Cellesta+ #293637143 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Cellesta+
ID: 293637143
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2013
Single wafer processor, 12" (4) Loadports (20) Chambers 2013 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Cellesta + ist eine Ausrüstung zur Herstellung von hochreinen Halbleitern und integrierten Schaltungen. Das System ist in der Lage, Wafer und Masken zu reinigen, zu waschen und zu waschen. Es wurde entwickelt, um einen vollautomatischen und effizienten Prozess zur Verfügung zu stellen, der in der Lage ist, mehrere Größen von Wafern zu handhaben, mit einer programmierbaren Desinfektions- und Waschzeit für maximale Effizienz. TEL Cellesta + besteht aus einer ProCleaner Einheit, einer ProScrubber Einheit und einem Trümmertablett. Der ProCleaner verwendet eine Dual-Tank-Einheit, um präzises druck- und temperaturgesteuertes Wasser bereitzustellen; dies hilft, eine hochwertige Wafer- und Maskenreinigung zu erreichen. Der ProScrubber ist mit Wafer/Maske-Waschflossen ausgestattet und kann auch saure, alkalische und neutrale Waschflüssigkeiten zur präzisen Reinigung verwenden. Der ProScrubber ist auch in der Lage, Temperatur- und Drucksteuerung an den Waschlösungen durchzuführen, um die Waschzeit zu reduzieren. Das Abfallsammelblech sammelt eventuell verbleibende Partikel aus dem Waschvorgang. TOKYO ELECTRON Cellesta + ist benutzerfreundlich und einfach zu bedienen. Es ist mit einem Touchpanel-Display installiert, mit dem der Bediener schnell und einfach die gewünschten Einstellungen auswählen kann. Das Display ermöglicht es dem Benutzer auch, den Status der Maschine zu überwachen, wie den Fortschritt des Waschprozesses und die Ebenen der verbleibenden Lösung in den Tanks. Das Werkzeug wird auch mit mehreren Sicherheitsfunktionen wie Temperatursensoren, Druckventilen und anderen Sicherheitsmerkmalen ausgestattet. Diese Sicherheitsmerkmale reduzieren die Möglichkeit von Wasseraustritt und Verschmutzung. Insgesamt ist Cellesta + ein fortschrittliches Asset, das einen hochautomatischen und effizienten Prozess für die Reinigung und Waschung von Wafern und Masken bietet, die in der Halbleiter- und IC-Fertigung verwendet werden. Durch präzise druck- und temperaturgesteuertes Wasser, temperatur- und druckgesteuerte Waschlösung und verschiedene Sicherheitsfunktionen ist das Modell in der Lage, in kurzer Zeit qualitativ hochwertige und saubere Ergebnisse zu erzielen.
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