Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #293614676 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 293614676
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Wafer scrubber, 12"
Material: Silicon
Utility outlet: Vertical downward
Carrier station block
Carrier stage height: 900 mm
Wafer transport method: Robotics transport method (X, Y, Z, Θ)
Sensor placement sensor
Presence sensor
Mapping sensor
Wafer out sensor
Load port: Bolts / Light
Loader: FOUP
Load port lockout pin: FEOL
Load port indicator
Operator access switch
FOUP Type: (25) Wafers
Kinematic coupling pin
Clamp
Fan Filter Unit (FFU)
AMHS: SHINKO ELCTRIC OHT
I/O Sensor
ES Switch terminal block
Carrier ID reader
Alarm lamp: Red / Blue / Yellow / Green
Direct drain
Digital manometer exhaust monitor
Does not include HDD
Scrubber process station:
Mechanical chuck
Wafer holding method: 6-Pins edge contact method
Wafer fixing method: 3-Points grip method
Wafer sensor
N2 Purge backside liquid contact prevention
Acceleration: 100 to 1,000 rpm (100 rpm/s increment)
Dual band monitor: Alarm rpm bandwidth, stop rpm bandwidth
Alarm / Stop rpm setting range: ±0 to 1,000 rpm
Process recipes: 1000
Recipe steps: 100
Process time setting: 0 to 999.9 sec/step (0.1 sec increment)
Arm: Brush and spray
PVA and PP Brush
Atomized spray nozzle
Flow range: 100 L/min
Basic setting: 0.2 L/min
(2) Side rinse nozzles
ENTEGRIS DIW Filter
Rinse nozzle purge method: Slow leak
ULPA Filter
Rotation speed:
CH2-1, CH2-2: 0, 10 to 3,000 rpm (1 rpm increment)
CH2-3, CH2-4: 0, 10 to 4,000 rpm (1 rpm increment)
AC Power box:
Round terminal for main breaker
Voltage: 208 V
Option:
CCD Camera
Spinner internal lighting
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON NS 300 Wafer & Mask Scrubber ist ein zuverlässiges und effizientes Werkzeug, das in verschiedenen Branchen eingesetzt wird. TEL NS 300 Wafer & Mask Scrubber wird hauptsächlich in der Halbleiterherstellung und verwandten Industrien eingesetzt und bietet sauberere Wafer und Masken für eine verbesserte Kontrolle und Ausbeute des Herstellungsprozesses. TOKYO ELECTRON NS300 Wafer & Mask Scrubber ist in einem kompakten und benutzerfreundlichen Design erhältlich und ist hochwirksam und effizient für die Reinigung von kontaminierten und/oder versprühten Wafern, Quarzmasken, Glasplatten und anderen. NS300 Wafer & Mask Scrubber ist mit einem 120-Liter-Schüttel-/Scheuerbodentank mit einstellbarer Geschwindigkeit für optimale Reinigungsergebnisse ausgelegt. Die Waschwirkung wird durch ihre spinnende Rührplatte durchgeführt und ergibt eine gleichmäßige Reinigung aus allen Richtungen. Nicht nur ist die Scheuereinheit sehr langlebig und in der Lage, auch saubere Oberflächen zu schaffen, aber der Geräuschpegel ist leise und gut innerhalb der gesetzlich vorgeschriebenen Pegel macht es für die meisten Umgebungen geeignet. TEL/TOKYO ELECTRON NS300 Wafer & Mask Scrubber ist mit einer Temperaturregeleinrichtung und einem digitalen Anzeigetemperatursensor ausgestattet, so dass Benutzer die Temperatur effizient und genau einstellen können. Der Wäscher kommt auch mit einem Entwässerungssystem, einer automatisierten Ultraschallreinigungsanlage mit vielen verschiedenen Reinigungszyklen, einer automatischen Ablaufsteuerungsmaschine für kontrollierte Entwässerung und einem präzisen Steuerwerkzeug für Temperatureinstellung und Temperaturregelung. Um den Anforderungen einer Vielzahl von Plattformen gerecht zu werden, verfügt TOKYO ELECTRON NS 300 Wafer & Mask Scrubber auch über ein großes Kippfenster, Anti-Vibrations-Beine, verstellbare Luftpistolen und eine große Auswahl an tränkenden Lösungen, so dass Benutzer die Flexibilität haben, einen Prozess an ihre spezifischen Anforderungen anzupassen. Insgesamt ist TEL NS300 Wafer & Mask Scrubber ein leistungsstarkes, benutzerfreundliches und intuitives Werkzeug, das Zeit und Geld im Produktionsprozess spart. Seine langlebige Konstruktion gewährleistet, dass sich NS 300 Wafer & Mask Scrubber darauf verlassen kann, Wafer und Masken schnell und effektiv zu reinigen, während seine Temperaturkontrolle und sein präzises Kontrollmodell die Prozesssicherheit und -leistung weiter verbessern.
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