Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #293802306 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON NS 300 ist ein moderner Wafer- und Maskenwäscher, der den meisten Anforderungen der Halbleiterproduktion gerecht wird. Es handelt sich um eine hochpräzise Ausrüstung, die für den Einsatz auf allen Produktionsebenen konzipiert ist, von der Einzelwaferforschung und Messtechnik bis zur Serienproduktion von Leiterplattenbaugruppen. TEL NS 300 verfügt über ein einzigartiges und vielseitiges Design und bietet erweiterte Automatisierungsfunktionen, um die Waferbearbeitung zu optimieren, Kosten zu senken und die Produktivität zu steigern. Die Maschine wurde für eine Vielzahl von Arbeitsplätzen im manuellen oder automatischen Modus gebaut. Sein ergonomisches Design bietet eine einfache und intuitive Bedienung mit einem Touchscreen-Bedienfeld, mit dem der Bediener ganz einfach die gewünschten Funktionen und Parameter auswählen kann. Es verfügt auch über ein modernes optisches Wafer-Lesesystem, das eine 2D-zukunftsweisende Waferausrichtung mit bis zu 6 ° Einstellbereich bietet. TOKYO ELECTRON NS300 verwendet einen überlegenen Wafer- und Maskenwäscheprozess. Es verwendet einen zweistufigen Prozess, der auf der Oberfläche eines Wafers arbeitet, die Beseitigung von Verunreinigungen und Mikron-Ebene Fehler. Der erste Schritt ist ein Nasswäscheprozess, der Verunreinigungen entfernt und eingebettetes Partikelmaterial entfernt. Der zweite Schritt ist ein weicher Schleifmittelwäscheprozess, der Restmaterial wegwirft und eine perfekt saubere Oberfläche hinterlässt. Die vollautomatisierte Einheit verbessert ihre Waschfähigkeit weiter mit fortschrittlichen Funktionen wie Heißeinspritzung von Seife und Warmwasserspülung. Diese Eigenschaften helfen, Partikel auf der Arbeitsfläche zu reduzieren, indem sie Verunreinigungen aufbrechen, bevor sie sich in die Oberfläche einbetten können. Die Maschine bietet auch eine Temperaturregelung der Lösungen, wodurch der Benutzer mehr Kontrolle über den Waschprozess erhält. TOKYO ELECTRON NS 300 bietet auch eine große Auswahl an Waschzubehör, wie Spritzpistole, Tropfschale und Staubsammler, so dass es jedem Reinigungsbedarf gerecht wird. Darüber hinaus ermöglicht ein fortschrittlicher Bilddetektionsalgorithmus die genaue Identifizierung von Verunreinigungen, die durch den Waschvorgang aufgenommen werden. NS 300 ist ein fortschrittliches Werkzeug, das entwickelt wurde, um die Wirksamkeit der Wafer- und Maskenwäscheprozesse zu optimieren und zu erhöhen. Die automatisierten Funktionen und das vielseitige Design machen es zu einer idealen Wahl für Wafer und Maskenschrubbing auf allen Produktionsebenen.