Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #9391714 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON NS 300 ist eine Wafer- und Maskenwäscherausrüstung, die den Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Es ist ein vollautomatisches, dreistufiges Waschsystem, das bis zu 5 Zoll und 8 Zoll große Wafer mit Glassubstraten sowie Dünnschichtmustern handhaben kann. Unter Verwendung eines verbesserten „Reverse-Flow“ -Wäschekrümmers ist die Wascheinheit in der Lage, einen genauen und zuverlässigen Reinigungsprozess für jede Kombination von Wafermaterialien, -größen und -konfigurationen bereitzustellen. Um die Reinigungsergebnisse zu verbessern, verwendet die Waschmaschine sowohl vertikale als auch horizontale Sprays, um die vollständige Entfernung von Partikeln von der Waferoberfläche zu gewährleisten. Das patentierte Wäscher-Design arbeitet, um die Entfernung von Partikeln zu maximieren, und bietet eine vollständige Eintauchreinigung mit allen Partikeln, die von der Waferoberfläche entfernt werden, und alle Rückstände, die von der Waferoberfläche zur Sammlung über eine gemeinsame Flüssigkeitsabfallleitung abgeführt werden. TEL NS 300 ist mit einem leistungsstarken, mehrkopfigen, rotierenden Reinigungsstab mit einem präzise positionierten Spray ausgestattet, der eine konsistente und kontrollierte Kaskadenwirkung über die gesamte Oberfläche des Substrats liefert. Dieser Prozess hilft, Partikelstoßen zu reduzieren, die erneute Abscheidung zu reduzieren und die Partikelentfernung während des Reinigungsprozesses zu verbessern. Der Wafer- und Maskenwäscher nutzt zudem eine leistungsstarke chemische Voreinweichung, um sicherzustellen, dass die chemisch aktivierten Partikel vor dem Wiedereintritt in den Tauchbehälter vollständig entfernt werden. Die Kombination aus chemischem Pre-Soak und kraftvollem Waschstab reduziert den Gesamtaufwand für eine vollständige Reinigung erheblich. Um den Reinigungsprozess zu überwachen und seine Genauigkeit und Konsistenz zu gewährleisten, verfügen der Wafer und der Maskenwäscher über ein eingebettetes Video-Tool, mit dem Bediener den Bereich hinter der Tankwand anzeigen können. Dies verbessert die Fähigkeit des Bedieners, den gesamten Reinigungsprozess fernzuüberwachen. Bediener können die Parameter auch überprüfen und anpassen, um den Reinigungsprozess zu optimieren. Der Wafer- und Maskenwäscher ist auch mit einer breiten Palette an chemischen Behandlungen und Waschmitteln auf dem Markt kompatibel. Dadurch wird sichergestellt, dass der Wäscher mehrere Substrate und chemische Zusammensetzungen mit höchster Genauigkeit effektiv reinigen kann. Neben den fortschrittlichen Reinigungsfunktionen senkt TOKYO ELECTRON NS300 auch die Energiekosten durch die Verwendung einer Gegenstromtechnik, die dazu beiträgt, den Wasser- und Reinigungsmittelverbrauch zu reduzieren, die Abwasserableitung zu reduzieren und die damit verbundenen Gesamtenergiekosten zu minimieren. Alle Komponenten von NS300 sind auf Dauer gebaut, unterstützt durch einen umfassenden Serviceplan, der maximale betriebliche Effizienz und Leistung gewährleistet. Dies macht es zu einer idealen Wahl für Halbleiterhersteller, die einen zuverlässigen und effizienten Wafer- und Maskenwäscher suchen.