Gebraucht THOMAS SWAN Episorb II #9017663 zu verkaufen

THOMAS SWAN Episorb II ist ein hocheffizienter Wafer und Maskenwäscher, der entwickelt wurde, um die ultimative saubere Oberfläche vor der Wafer- und Maskenbearbeitung zu bieten. Episorb II ist mit einem einzigartigen Schleifmittel Reinigungskopf, der sanft entfernt Partikel von Oberflächen mit minimalen Schäden. Die Ergebnisse sind glatte, saubere Oberflächen, die dann bereit sind für die Anwendung von Gieß-, Abscheide- und Ätzschritten, die in modernen Halbleiterherstellungsverfahren verwendet werden. THOMAS SWAN Episorb II wird von einem Zweigangmotor angetrieben, der einen variablen Drehzahlbetrieb ermöglicht. Auf diese Weise kann die Bedienungsperson die Geschwindigkeit des Waschkopfes einstellen, um die Reinigungskraft wie in einem bestimmten Prozess angegeben genau zu steuern. Der Waschkopf ist fachmännisch mit doppellagigem Schleifmaterial ausgelegt, das bei minimaler Beschädigung Partikel von empfindlichen Oberflächen wirksam entfernt. Das mehrlagige Schleifmaterial erhöht die Lebensdauer des Waschkopfes und sorgt für eine optimale Leistung, wenn das Gerät ausgeführt werden muss. Die abrasive Wirkung von Episorb II soll auch die Erzeugung von Partikeln in der Luft minimieren, die während des Gebrauchs erzeugt werden können. Dies geschieht durch ein internes Staubsammelsystem, das einen Großteil der Partikel während des Waschvorgangs einfängt. Das Staubsammelsystem trennt dann die Partikel zur leichten Entsorgung von der Waschlösung ab. THOMAS SWAN Episorb II ist für einfache Wartung und Reinigung konzipiert. Reinigungskopf und Antriebssystem sind für eine schnelle Entnahme und Wiedereingliederung gut zugänglich. Dies macht Reinigung und Wartung einfach; erfordert nur den Austausch des Scheuerkopfes, um eine optimale Leistung wiederherzustellen. Insgesamt ist Episorb II ein innovatives Gerät, das den Vorteil bietet, eine saubere und hocheffiziente Arbeitsumgebung für die Wafer- und Maskenbearbeitung zu erhalten. Das benutzerfreundliche Design ermöglicht eine einfache Bedienung, Reinigung und Wartung, während die fortschrittlichen Reinigungs- und Staubsammelfunktionen die Leistung von Wafer- und Maskenoberflächen von höchster Qualität gewährleisten.