Gebraucht TOSETZ EX-007SU-DF #293629903 zu verkaufen

ID: 293629903
Scrubbers (4) Chambers NW40 Inlet Flange exhaust, 6" TEOS SWAGELOK Nitrogen inlet, 14" Capacity: 200 L/min Make up water Drain line Water inlet: 3/4" Pipe Power supply: 200 VAC, 30 A, 50 Hz, 3-Phase.
TOSETZ EX-007SU-DF ist ein Präzisionswafer und Maskenwäscher, der für eine überlegene Partikelentfernung und Kontaminationskontrolle entwickelt wurde. Diese Maschine wurde entwickelt, um die hohen Anforderungen prozesskritischer Anwendungen in der Halbleiterherstellung zu erfüllen, einschließlich 3D-Sensing, fortschrittlicher Lithographie und Submikron-Bildgebung. EX-007SU-DF verwendet eine Vielzahl fortschrittlicher Waschtechnologien, um sowohl Wafer als auch Masken effektiv auf das höchste Maß an Sauberkeit zu reinigen, einschließlich Trocken- und Nasswäsche sowie Ultraschallwäsche, um eine optimale Partikelentfernung zu gewährleisten. TOSETZ EX-007SU-DF ist mit einer integrierten Zweikopf-Waschkammer ausgestattet, die den Einsatz sowohl nasser als auch trockener Waschtechnologien ermöglicht. Die Wafer und Photomasken werden gleichzeitig gereinigt, um die schwierigsten Partikel und Abfälle zu entfernen, wodurch eine überlegene Sauberkeit und Kontaminationskontrolle gewährleistet ist. Darüber hinaus ist die Kammer vollständig aus Edelstahl gefertigt und wasserdicht, so dass sie für den Einsatz in der Nasswäsche völlig sicher ist. EX-007SU-DF verfügt zudem über einen leistungsstarken Hochdruckluftzirkulator, der die Waschlösungen effektiv rührt und Verunreinigungen aus der Kammer entfernt. Dies trägt zur Verbesserung der Effektivität des Waschprozesses bei und erspart umständliche und manuelle Rühraufgaben. Darüber hinaus ist TOSETZ EX-007SU-DF mit einem intelligenten Auto-Scrubbing-System ausgestattet, das es Anwendern ermöglicht, Scrubbing-Aufgaben mühelos mit minimalem Eingriff zu programmieren und auszuführen. Der Scheuerzyklus kann auch feinjustiert und an empfindliche Materialien angepasst werden. EX-007SU-DF wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Substraten, einschließlich 200mm und 300mm Waferträger, sowie Photomasken bis zu 200mm Größe zu handhaben. Die Flexibilität dieses Wäschers ermöglicht es, eine Reihe von Substraten schnell und präzise zu handhaben. Zusätzlich weist die Kammer eine ergonomisch gestaltete Ladekammer auf, um die Produktbeladung zu erleichtern. Insgesamt ist TOSETZ EX-007SU-DF ein fortschrittlicher, hochmoderner Wafer- und Maskenwäscher, der sowohl Wafer als auch Masken effektiv auf höchste Sauberkeit reinigt. Die umfassende Liste der Waschtechnologien und der leistungsstarke Luftzirkulator machen ihn ideal für prozesskritische Anwendungen in der Halbleiterherstellung. Die Vielseitigkeit, die benutzerfreundliche Programmierung und das Spektrum der Substratkompatibilität machen es zu einer idealen Lösung für jede Waschanwendung.
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