Gebraucht ULTRA-T EQUIPMENT / UTE PSC 122M #9301030 zu verkaufen

ULTRA-T EQUIPMENT/UTE PSC 122M Wafer & Mask Scrubber ist eine vielseitige Ausrüstung, die für die präzise Reinigung von Wafern und Masken im Halbleiterherstellungsprozess entwickelt wurde. Die Maschine verfügt über eine durchsatzstarke, automatisierte Ausrüstung, die in der Lage ist, maximal sechs 300mm Wafer oder Masken gleichzeitig schnell zu schrubben, um überlegene Reinigungsergebnisse zu erzielen. Der Waschvorgang erfolgt in einem Liegeschrank, der den Wafer oder die Maske sicher und sicher in einer komfortablen, ergonomisch-freundlichen Umgebung hält. Das Gerät ist mit einer einstellbaren Bürstenhöhe, Vibrationsfrequenz und Temperaturbereich ausgestattet, die eine feine Kontrolle über die Waschparameter ermöglicht. Der eingebaute Luftvorhang verhindert, dass luftgetragene Partikel in den Schrank gelangen und ermöglicht eine bessere Reinigungsumgebung für die Wafer und Masken. Der Waschprozess wird von einem Steuerungssystem verwaltet, das die Operationen einschließlich Maschinenzyklen, Bürstengeschwindigkeit, Temperatur und Berührungszahlen automatisiert. Darüber hinaus ermöglicht es die Programmierung verschiedener Reinigungszyklen, um spezifische Reinigungsparameter zu erfüllen, die für die Wafer- und Maskenherstellungsverfahren erforderlich sind. Die benutzerfreundliche Oberfläche, der integrierte Speicher und die programmierbaren Zyklusfunktionen erleichtern es den Bedienern, die Einstellungen und Parametereinstellungen der Maschine bei Bedarf schnell anzupassen. Das Gerät verfügt auch über eine eingebaute Überwachungs- und Alarmmaschine, die mit verschiedenen Parametern und Schwellen programmiert werden kann, einschließlich Wafertemperatur, Bürstendruck, Vibrationsfrequenz und Zykluszeit. Diese Parameter können leicht angepasst werden, um den Waschprozess zu optimieren und mögliche Sicherheitsprobleme zu vermeiden. UTE PSC 122M Wafer & Mask Scrubber wurde entwickelt, um die anspruchsvollsten Anforderungen an die Halbleiterherstellung zu erfüllen und ist eine ideale Wahl für genaues und effizientes Wafer- und Maskenwäschen. Das anspruchsvolle Design, das Hochdurchsatzwerkzeug und die robusten Funktionen machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für jede moderne Produktionsstätte.